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真空紫外光による単純な有機14族化合物の光分解

真空紫外光光解简单有机族 14 化合物

基本信息

批准号：
06239222
负责人：
中平靖弘
金额：
$ 1.22万
依托单位：
The University of Electro-Communications
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1994
资助国家：
日本
起止时间：
1994 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

ペルメチルポリシランの光分解過程は溶液中の研究で一般的な開裂様式が明らかにされている。しかし、より基本なアルキルシラン類に関しては1、2の気相光分解の報告のみである。本研究では数種の単純なペルアルキルシラン類の真空紫外光分解を、ポリシラン類と同様にシクロヘキサン溶液中で行い、溶液反応での特徴およびケイ素鎖長の効果を検討した。テトラブチルシラン1では、トリブチルシラン4が微量のオクタンとともに生成し、ヒドロシラン存在下では、シリレン挿入生成物5が得られる。ヘキサメチルジシラン2ではトリメチルシラン6、テトラメチルシラン7および1,3-ジシラシクロブタン8が生成し、ヒドロシラン存在下ではシリレン挿入生成物10が得られる。以上から、アルキルシランおよびジシラン類の光分解の主経路はホモリシスによるシリルラジカルの生成であり、低効率ではあるがシリレン脱離が競争的に進行している。一方、オクタメチルトリシラン3では6、2および8が生成し、ヒドロシラン存在下ではシリレン捕捉生成物10が得られる。トリシラン3では1および2と異なり、シリレン脱離が主過程となり、ホモリシスがこれと競争的に起こっている。アルキルシランおよびジシランの溶液相光分解は気相と形式的には同じ機構で進行している。今回溶液反応によりシリレン脱離過程の存在が初めて確立した。しかし、ジシランについては気相で波長依存性も示唆され、反応活性種の動的挙動等さらに詳細な検討が必要である。溶液中では中間活性種間の反応が不均化に限られ気相に比して生成物はより単純である。

The research on the photolysis process of ペルメチルポリシランの in solution is a general cracking formula of らかにされている.しかし, よりbasic なアルキルシランkind に关しては1, 2の気phase photolysis のreport のみである. In this study, several kinds of pure なペルアルキルシラン-type vacuum ultraviolet photodecomposition rays and ポリシラン-type sterilizers were used. The effect of にシクロヘキサン solution is で行い, and the solution is での特徴およびケイSu lock length is を検した.テトラブチルシラン1では、トリブチルシラン4が微のオクタンとともWhen にGenerates し, ヒドロシラン exists, では, シリレン inserts the product 5がgetsられる.ヘキサメチルジシラン2ではトリメチルシラン6, テトラメチルシラン7および1,3-ジシラシクロブタン8がGenerationし、ヒドロシラン In the presence of ではシリレン insert the product 10がgetられる. The above から、アルキルシランおよびジシランkindの主経路はホモリシスによるシThe リルラジカルの generates であり, the inefficient ではあるがシリレン is separated from the competition にしている. One party, Arkham メチルトリシラン3では6, 2および8がGenerationし, in the presence of ヒドロシラン, ではシリレン captures the product 10 and gets られる.トリシラン3では1および2とdifferentなり、シリレン出が主In the process of competition, the competition between Naina and Nainaru has begun.アルキルシランおよびジシランのSolution phase photolysis and は気phase と form of には Same as the mechanism is carried out している. This time, the existence of the solution reaction によりシリレン detachment process has been established for the first time. The wavelength dependence of the しかし, ジシランについては気phase and the reaction of the reaction active species are all necessary. The non-uniform reaction between intermediate active species in the solution is limited to the pure phase ratio and the resulting product is pure.