ケテンシリルアセタールを用いる高立体選択反応系の構築

烯酮甲硅烷基缩醛高立体选择性反应体系的构建

基本信息

  • 批准号:
    07216274
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.34万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    1995
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1995 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

一般にケテンシリアセタールの向山-マイケル反応は立体選択的に進行しない。我々はこれがケテンシルアセタールからルイス酸への電子移動で開始されるラジカル反応に起因すること、したがって電子移動反応を抑制し求核反応を誘起すると反応の高立体選択化が可能となることを明らかにしている。反応が求核的に進行するのか電子移動により開始されるかはベータ位の置換基の数の異なるケテンシルアセタールの競争反応によって判断することができる。すなわち、求核反応の場合には置換基の少ないケテンシリルアセタールが優先的に反応し、電子移動機構の場合には逆の選択性が発現する。そこでまず最初にチオケテンシリルアセタールの向山-マイケル反応がどちらの機構で進行するのか明らかにするために競争反応を行った。ベータジメチル体とモノメチル体の1:1混合物をTiCl_4プロモーターを用いる求核反応条件下でエノンと反応させた。予想どうりベータ位の置換基の数の少ないアセタールが優先的に反応し、電子移動反応が抑制されていることが判明した。これらの知見を基にしてベータモノメチルチオケテンシリルアセタールと各種エノンとの向山-マイケル反応ににおけるsyn/anti選択性について検討した。反応は上に述べた求核反応条件を用いて行った。その結果いくつかの場合にはかなりのジアステレオ選択性が認められ、チオケテンシリルアセタールを用いることにより向山-マイケル反応の高立体選択化が達成された。
General information on the selection process The reason why the electron movement of the silicon dioxide was initiated was that the electron movement of the silicon dioxide was inhibited, and the electron movement of the silicon dioxide was induced. The number of substitution bases at the position of the nucleus is different from that at the position of the nucleus. The number of substitution bases is different from that at the position of the nucleus. In the case of a displacement mechanism, the priority of the displacement mechanism is reduced, and in the case of an electronic displacement mechanism, the selectivity of the displacement mechanism is reduced. In the first place, the competition is going on. 1:1 mixture of TiCl_4 and TiCl_4. It is expected that the number of substitution bases in the position of the electron shift will be reduced, and the electron shift will be suppressed. This information is based on the following information: In addition to the above, we can also use this method to solve the problem. The result is that in the case of high resolution, high resolution selectivity is achieved.

项目成果

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