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200KV・超高真空高分解能電顕による薄膜成長・表面現象の研究

200KV・超高真空高分解能電顕による薄膜成長・表面現象の研究
利用200KV/超高真空高分辨率电子显微镜研究薄膜生长和表面现象
批准号：
X00070----342018
负责人：
八木 克道
金额：
$17.15万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (A)
财政年份：
1978
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1978 至 1979
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-X00070----342018/
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表面、界面-異なる対称性の接点の物性
  • 批准号：
    08NP1201
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Creative Basic Research
  • 资助金额：
    $0.0万
  • 财政年份：
    1996
  • 负责人：
    八木 克道
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
表面・界面-異なる対称性の接点の物性
  • 批准号：
    09NP1201
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Creative Basic Research
  • 资助金额：
    $0.0万
  • 财政年份：
    1996
  • 负责人：
    八木 克道
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
表面・界面-異なる対称性の接点の物性
  • 批准号：
    07NP1501
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Creative Basic Research
  • 资助金额：
    $0.0万
  • 财政年份：
    1995
  • 负责人：
    八木 克道
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
表面における光化学反応過程のREM-PEEM観察
  • 批准号：
    06239221
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $1.41万
  • 财政年份：
    1994
  • 负责人：
    八木 克道
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology