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半導体超微粒子積層薄膜による第二高調波発生の試み

尝试使用半导体超微粒子的层叠薄膜来产生二次谐波

基本信息

批准号：
09875012
负责人：
伊藤正
金额：
$ 0.77万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份：
1997
资助国家：
日本
起止时间：
1997 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

1.NaCl中のCuCl超微粒子について、第二高調波散乱と励起子ルミネッセンスの時間分解分光を行なった結果、量子サイズ効果により励起子共鳴より長波長側領域において第二高調波散乱が優勢であることが明かとなった。2.2光子顕微分光法により、2光子励起可能なP型励起子状態とS型状態では光学フォノンとの混合の様子が異なることが分った。また、この閉じ込めP型励起子状態は縦波励起子的性格を有する可能性が示された。3.個別に膜厚モニターを設置することにより、2蒸発源真空蒸着装置においてNaCl中にCuCl超微粒子を分散した堆積膜試料の作成に成功した。膜厚を数10nmに制御した多層膜試料に於て、鋭い励起子吸収、発光の観測に成功し、併せて多層構造を示す干渉縞構造を確認できたことにより、良質試料が期待できることが分った。4.基板として石英、サファイアを比較したが、発光効率としては前者が、スペクトルの鋭さは後者が優れていた。担持母体であるNaCl結晶の配向性の制御や、熱処理による微粒子サイズ制御とNaCl層への拡散防止がどの程度両立するかは今後の課題である。5.以上の成果に立った成膜条件から考えると、薄い膜厚で実現可能な反射型素子が有望であることが分った。周期堆積膜の各種パラメータに対する第2高調波発生効率の変化と発光の時間波形を現在測定中であり、その結果からコヒーレント倍波光発生の確認とともにその発生効率の入射光子エネルギー依存性を調べ、動作原理の確認とともに、高い効率と再現性を持った第2高調波発生のための素子条件を詳しく検討して行く。

In 1.NaCl, the CUCL ultrafine particle filter, the second high wave dispersion actuator, the second high wave dispersion actuator, the second high wave dispersion exciter, the second high wave dispersion exciter, the second high wave dispersion actuator, the second high wave dispersion exciter, the second high wave dispersion actuator, the second high wave dispersion exciter, the second high wave dispersion actuator, the second high wave dispersion exciter, the second high wave dispersion actuator, the second high wave dispersion exciter, the second high wave dispersion actuator, the second high wave dispersion actuator, the second high wave dispersion exciter, the second highest wave dispersion actuator, the second highest wave dispersion exciter, the second highest wave dispersion actuator, the second highest wave dispersion driver, the second highest wave dispersion exciter, the second 2.2 photons "differential photometry", 2 photons excitation may be "P-type exciter", "S-type state", "optics", "mixing", "sub-photon" and "sub-photon". There is a possibility that the personality of the wave exciter will show that there is a possibility. 3. For example, the thickness of the film is used to set the vacuum device, and the vacuum evaporation device of 2 steam source is used to test the CUCL ultrafine particles in the NaCl. The CUCL ultrafine particles are dispersed and the active film material is made successfully. The thickness of the film is determined by the 10nm system, which is used to control the material of the film, the absorption of the exciter, the success of the device, the production of the film, the temperature of the film, the thickness of the film, the absorption of the exciter, the success of the device, the production of the material, the temperature, the temperature, the temperature and the temperature. 4. The substrate is different from the quartz, the substrate, the quartz, the substrate, the quartz, the quartz, It is responsible for the control of the orientation of the NaCl crystal, the control of the NaCl particles, the dispersion of the particles to prevent the dispersion of the particles in the future. 5. The above results are expected to improve the film formation conditions, thin film thickness and possible reflective pigments. The second high wave generation rate of the second high wave in the periodic reactor is now being measured, and the results show that the double wave is now in the process of determination, and the results confirm that the generation rate of the incident photon is dependent on the incident photon emission, and the action principle confirms the correlation. The higher the frequency and the higher the frequency, the higher the rate, and the higher the rate.