Ion and plasma-enhanced proportional transfer of 3D-structures in the micrometer- and sub-micrometer-range

微米和亚微米范围内 3D 结构的离子和等离子体增强比例转移

• 批准号: 5214708
• 负责人: Professor Dr. Andreas Tünnermann
• 金额: --
• 依托单位: Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V. (IOM)
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Units
• 财政年份: 1999
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 1998-12-31 至 2004-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5214708?language=en
• 关键词: Ion; plasma; enhanced; proportional; transfer

Die Übertragung von 3-dimensionalen mikrooptischen Oberflächenstrukturen wie Mikrolinsen, Mikroprismen, Mikrospiegel sowie von diffraktiv optischen Oberflächenelementen, auch als großflächige Arrays, in optische harte Materialien erfolgt mit Trockenätzverfahren. Plasmagestützte Verfahren, vor allem aber (reaktives) Ionenstrahlätzen und Ionenätzen müssen dabei, ausgehend von deren Entwicklungsstand bei der Übertragung von binären Maskenstrukturen (Si-Technologie), für die Übertragung von 3D-Resistprofilen z.B. in ein optisches Substratmaterial entsprechend den Anforderungen an die mikrooptischen Elemente angepaßt bzw. weiterentwickelt werden. Probleme der Übertragungsgenauigkeit des Resistprofils, der Vermeidung von Defekten im Substratmaterial infolge des Ätzprozesses und die Erzeugung optisch glatter Oberflächen sind zu lösen. Bei den Ionen- und Ionenstrahlätzprozessen können die Ionenenergie, die Ionenstromdichte und der Ioneneinfallswinkel variiert werden. Bei reaktiven Ätzprozessen spielt die Chemie der reaktiven Ätzgasspezies für den (proportionalen) Übertragungsprozeß eine wichtige Rolle. Auf Grund der Komplexität der Übertragungsprozesse (große Variabilität der Strahl-, Material- und Geometrieparameter), insbesondere bei den 3D-Strukturen, ist eine Modellierung des zeitlichen Ätzverlaufs einerseits ein wichtiges Hilfsmittel zur Reduzierung des experimentellen Entwicklungsaufwandes und andererseits eine entscheidende Voraussetzung für eine spätere, hinsichtlich der Strukturgeometrie und der Materialien, flexible Bearbeitungstechnologie. Dabei muß die mathematische Modellierung der zeitlichen Entwicklung des Übertragungsprozesses im Grundalgorithmus die Reflexion primärer Ionen an Strukturen sowie Abschattungen bei Probenrotation unter schrägem Einfallswinkel, aber auch Sekundäreffekte, wie Redeposition abgetragenen Substratmaterials, beschreiben. Im beantragten Projekt soll der Proportionaltransfer analoger 3-dimensionaler Präzisions-Mikrostrukturprofile für optische Anwendungen an zwei technologisch relevanten Beispielen demonstriert werden. Dies sind die Übertragung von Mikrolinsen als strahlformende Optiken in hochbrechenden A3-B5-Halbleitern für den sichtbaren Bereich (GaP) und die Generierung von Mikrolinsenarrays z.B. als Homogenisatoren für Beleuchtungssysteme von Excimerlasern in Quarz und CaF2. Als Applikation sollen "Solid Immersion Lenses" (SIL) in GaP hergestellt und in ihrer Wirksamkeit als Element für die optische Nahfeldtechnik getestet werden.

在Optische Harte MATERIANT ERFOGT MIT Trockenätzverfahren中，Mibertggung von 3D-Dimsionalen mikrooptischen Oberflächenstrukturen Wie Mikrolinsen，Mikroprisen，MikroSpiegel Sowie von Diffraktiv optischen Oberflächenelementen，以及这样的ALS groúflächige阵列。在最优化的衬底材料中，我们选择了以下几种技术：一种新技术，一种新的技术。关于电阻曲线的问题，从材料的角度来看，这是一种错误的选择，也是一种错误的选择。这是一种新的能源，也是一种新的能源。从化学到化学(比例)都是如此。从材料和几何参数的角度来看，3D-Strukturen的3D-Strukturen，Eine Modellierung des zeitlichen des zzverlafes eineits ein wichtiges Hilfsmittel zur Reduzierung des Examententellen en Entwickluglugsafwandes and derdereine entelen en Entwickluglugsafwandes and erdereine entes entelen de Vorossetzung für eset zung für espaätere，hinsichtlich der Strukturrrie geometrie geomiderung der mearitungstechnologie这是一种新的数学模型，它反映了一种新的算法，它反映了一种新的结构形式，即材料的再沉积和再沉积。我是一个比例传递模拟器的三维模型--MikrostrukturProfile für Optische Anwendungen和Zwei技术的相关演示。在Hochbrechenden A3-B5-Halbleitern für den sichtbaren Bereich(GAP)和ge Generierung von Mikrolinsenarraarz.B.ALS Homgenisatoren für Beleuchtungssystem e von Excimerlasern in Quarz and CaF2中，Sind Sind ubertgung von Mikrolinsen ALS strahlformende Optiken in hochbrechenden A3-B5-Halbleitern für den sichtbaren Bereich(GAP)和die Generierung von Mikrolinsenarraarz.B.ALS Homgenisatoren für Beleuchtungssystem e von Excimerlaserlasern in Quarz und CaF2。ALS应用Sollen“固体浸没透镜”(SIL)在GaP中的应用以及在Wirksamkeit ALS元素中的应用。