权益分类	功能权益	普通用户	{{item.name}}会员
{{category.name}}	{{benefitItem.name}}

化学反応性制御による高光導電性積層薄膜の作製と界面の評価

通过控制化学反应性制备高光电导多层薄膜并评估界面

基本信息

批准号：
62603515
负责人：
鯉沼秀臣
金额：
$ 1.73万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1987
资助国家：
日本
起止时间：
1987 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

アモルファス半導体の形成過程における化学反応性を, 原料ガス2の電子状態と関連づけることを試みた. これに基づき, アモルファス半導体の気相合成原料となるガスを, 光反応に対して予想される反応性の観点から2種類に分類した. 2種の反応性の異なるガスの組み合せと, 励起手段(光とプラズマ)の組み合わせによる, 新しい積層薄膜の高速製造法を提案し, その可能性を実証した. 具体的な研究テーマと成果の概要を以下に示す.1.各種原料ガスの量子化学パラメーターと反応性フッ化シランおよびメチルシラン類の電子状態を半経験的分子軌道法であるMNDO法を用いて計算し, フロンティア軌道エネルギー値から励起状態の生成し易さを, 2中心結合エネルギーから結合開裂の位置を予測した. 計算したガスについて, プラズマ反応系の診断と生成するアモルファス半導体膜の構造解析を行なった. 理論計算からの予測は実験と良く対応し, 他の原料ガスについても, 反応性の予測が計算によってできることを示唆した. フェニルシランに方法を拡張し, 実験結果が励起状態のエネルギーを考慮することによって良好に説明できることも明らかにした.2.パルスプラズマー光(PP&P)CVD法によるアモルファス積層薄膜の連続合成上記の研究から, 原料ガスの構造によって反応性は顕著に異なり, 励起エネルギーによって反応性は制御できることが示唆された. 特に光CVDでは, 波長によって, 分解し膜を形成するガスと非反応性のガスを選別できる. 一方, 励起エネルギー分布の広いプラズマCVDでは非選択的な膜形成反応が起こり易い. この原料ガスと励起モードによる化学反応性を組み合わせ, 2種の膜を連続的に積層化する新しい方法を提案し, 実証した.

The chemical reaction of the raw material is less than that of the raw material, and the raw material is less than 2% of the raw material. On the basis of the system, the raw materials for the synthesis of semi-solid phase are very important, and the light reaction is expected to be classified in the first place. 2. Anti-optical devices are required to combine the system, encourage the means (light-emitting equipment) to combine the system, the new active thin film high-speed method proposal, and the possibility to improve the performance of the system. A summary of the specific research results is shown below. 1. All kinds of raw materials, quantum chemistry, chemical reaction, molecular channel method, molecular channel method and open circuit method. The calculation results show that the production of the semiconductors membrane is very important. In terms of theory, the calculation results show that the raw materials are in good condition, and the anti-calculation results are in good agreement. This is a good way to improve the performance of the method. The results show that you are in a good condition. 2. In this paper, we use the method of CVD (PP&P) to study the synthesis of active thin film, and the raw material is used to improve the reactionability of the material. Special light CVD light, wavelength spectrum, decomposition of the film to form a high-voltage non-reactionable filter. On the one hand, encourage the distribution of information on the formation of the non-selected membrane, which is easy to change. The raw materials are used to stimulate the chemical reaction of the chemical reaction system, 2. The positive reaction of the membrane link and the proposal of the new method.