半導体レーザーアブレーションによるバイオ薄膜の作製
半导体激光烧蚀制备生物薄膜
基本信息
- 批准号:20656008
- 负责人:
- 金额:$ 2.24万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
- 财政年份:2008
- 资助国家:日本
- 起止时间:2008 至 2009
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
これまで、biomaterialの薄膜化には溶液プロセスが主に用いられてきた。しかし溶液プロセスには溶媒が不純物として混入する問題や、集積化のための薄膜パターンニングが困難であるという問題が存在している。DNAチップやバイオデバイスの応用では、biomaterialの薄膜化・積層化が急務であり、不純物フリーの高品質薄膜の新しい作製手法が求められている。我々はこの要求を満たす手法として赤外領域の半導体連続光レーザーを用いた真空蒸着法を用いて、Si基板およびsapphire基板上にsalmon DNAとDNA base(adenine, thymine, cytosine, guanine, uracil)の有機薄膜の製膜を行った。赤外領域の半導体連続光レーザーを用いた製膜は、一般的なパルスレーザー法より簡便であるとともに、化学結合を切らないエネルギー領域を用いており、分子構造を破壊することのない製膜が可能である。Si基板上薄膜のFT-IR測定の結果、DNA baseの分子構造を維持したままの薄膜化に成功した。DNAについても薄膜化できたが、分子量が大きいことに起因してある程度の構造の変化は見られた。また、製膜条件の最適化の過程で、これらの薄膜は、配向性・表面モルフォロジー・製膜速度など異なる特性を示すことがsapphire基板上のXRD,AFM測定によって分かってきた。有機物を用いた薄膜は、類似の構造であっても官能基が1つ異なれば全く異なる構造や機能を発現する。赤外線レーザーを用いた製膜手法は、可動マスク機構や傾斜加熱機構を導入することでコンビナトリアルな材料探索が可能となる。材料の高速探索という観点からも本製膜手法はバイオマテリアルの製膜に適していると考えられる。
This is the first time that the film of biomaterial has been used. The problem of solvent impurity mixing and the problem of aggregation and thin film impurity mixing exist. The application of DNA is urgent for the thin film and lamination of biological materials, and the new production method of high-quality thin films of impurities is required. We have been working on organic thin films of salmon DNA and DNA base(adenine, thymine, cytosine, guanine, uracil) on silicon substrates by vacuum evaporation. A simple method for preparing films of semiconductor in the field of infrared radiation, chemical bonding, and molecular structure. Results of FT-IR measurements of thin films on Si substrates, the maintenance of molecular structure of DNA base and the successful thinning of DNA base DNA is thin film, molecular weight is large, structural changes are visible. Optimization of film deposition conditions, characterization of thin films, alignment, surface, deposition speed, XRD and AFM measurements on sapphire substrates Organic compounds are used in thin films, similar structures, functional groups, and structures. Infrared ray film making method, movable mechanism, inclined heating mechanism, etc. The high speed exploration of materials and the development of film manufacturing methods
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
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包含 DNA 的生物材料薄膜的红外激光 MBE 生长
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Shiro Shimada;Hiroki Otani;Akira Miura;Takashi Sekiguchi;Masaaki Yokoyama;伊藤清太郎
- 通讯作者:伊藤清太郎
分子性材料薄膜成長中のRHEED強度振動
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- DOI:
- 发表时间:2008
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:M. Akazawa;M. Miczek;B. Adamowicz and H. Hasegawa;アルグノ・アーノルド;H. Hasegawa and M. Akazawa;M. Akazawa and H. Hasegawa;H. Hasegawa and M. Akazawa;長谷川英機;伊高健治
- 通讯作者:伊高健治
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
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