ゾル-ゲル法による化学的耐久性コーティング膜の作製
ゾル-ゲル法による化学的耐久性コーティング膜の作製
批准号:
03650630
负责人:
峠 登
金额:
$1.22万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份:
1991
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1991 至 1992
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英文摘要
本研究は、金属アルコキシドを原料とするゾル-ゲル法を用いて、高分子フィルム、ガラス、あるいは金属基板に、耐水性、耐候性、耐酸化性などの化学的耐久性に優れた酸化物コーティング膜を形成するためのプロセスの検討と、これらの特性に対するコーディングの効果を明らかにすることを目的として行ったものであり、以下のような知見を得た。(1)ナイロン-6およびPETなどの透明高分子フィルムに、Zn0微粒子を含むTi0_2膜をコーティングするための条件を検討し、Zn0微粒子に予めSi0_2をコーティングしておくとゾルへの分散性が良くなることを見いだした。 さらに、Zn0の添加により、紫外線のカットオフ波長はTi0_2のみの場合の350nmから380nmまでシフトした。(2)メチルトリエトキシシランを原料として鋼板にコーティング膜を形成する際、200〜300℃付近で熱処理を行って、ある程度の0H基やCH_3基を残存させることが、鋼板との密着性を高めるのに効果的であることを明らかにした。(3)ソーダ・石灰ガラス基板の耐候性は、Ti0_2-Si0_2系薄膜をコーティングすることにより大きく向上した。さらに、これらのガラス基板の劣化は、プロトンとイオン交換したNa^+イオンがコーティング膜中を拡散し、膜表面でC0_2と反応することによって進行するが、Ti0_2-Si0_2系コーティング膜はNa^+イオンの捕獲層として働くために、基板の耐候性が向上することを明らかにした。(4)ガラス基板に撥水性コーティング膜を形成するためのプロセスとして、次の二段階プロセスを確立した。まず、PEGを含むゲル膜を290℃付近で熱処理して多孔性のSi0_2膜を形成し、次に、フッ素を含むアルコキシシランをコーティングして600℃で熱処理を行う。さらに、コーティング膜へのZr0_2の添加は耐摩耗性を大きく向上させることを見いだした。
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峠 登: "ゾル-ゲル法によるニューガラス" New Ceramics. 64-67 (1992)
Noboru Toge:“溶胶凝胶法的新型玻璃”《新陶瓷》64-67 (1992)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
A.Matsuda: "Alkali Passivation Mechanism of Sol-Gel Derived TiO_2-SiO_2 Films Coated on Soda-Lime-Silica Glass Substrates." J.Ceram.Soc.Jpn.100. 1094-1097 (1992)
A.Matsuda:“钠钙硅玻璃基板上溶胶-凝胶衍生的 TiO_2-SiO_2 薄膜的碱钝化机制”。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
南 努: "ゾル-ゲル法によるコ-ティング膜の作製と特性" HYBRIDS. 7. 15-21 (1991)
Tsutomu Minami:“溶胶-凝胶法涂膜的制备和性能” HYBRIDS. 7. 15-21 (1991)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
A.Matsuda: "Influences of Humidity and Temperature on Wheathering of Glass Substrates Coated with SolーGel Derived Films" 日本セラミックス協会学術論文誌. 99. 545-549 (1991)
A.Matsuda:“湿度和温度对涂有 SoluGel 衍生薄膜的玻璃基板风化的影响”日本陶瓷学会杂志 99. 545-549 (1991)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
A.Matsuda: "Preparation of B_2O_3ーP_2O_5ーSiO_2 Coating Films by the SolーGel Method" J.Mater.Sci.27. (1992)
A.Matsuda:“溶胶-凝胶法制备 B_2O_3-P_2O_5-SiO_2 涂层”J.Mater.Sci.27(1992)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
化学修飾されたゲル膜の光分解による機能性薄膜の作製と特性評価
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批准号:05453081
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
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资助金额:$3.78万
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财政年份:1993
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负责人:峠 登
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依托单位:
ゾル-ゲル法による超イオン伝導ガラスの生成とキャラクタリゼーション
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批准号:60750751
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1985
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负责人:峠 登
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依托单位:
Cuを含むカルコゲナイドガラスの電気的性質とCu^<2+>イオン応答性
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批准号:57750691
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.54万
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财政年份:1982
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负责人:峠 登
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依托单位:
各種の金属およびハロゲン元素を含むカルコゲナイドガラス半導体の光伝導度と伝導機構
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批准号:56750556
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1981
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负责人:峠 登
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依托单位:
海外基金