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金属内包シリコンクラスターの磁気共鳴

金属内包シリコンクラスターの磁気共鳴
金属封装硅团簇的磁共振
批准号:
08640741
负责人:
塩谷 優
金额:
$1.6万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
1996
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1996 至 --

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项目成果

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本研究の目的は、金属内包シリコンクラスター化合物の電子状態を磁気共鳴法により研究することである.得られた結果を以下に記す。1)NaSiを出発物質として高温、高真空下で脱ナトリウム反応を行なうことにより、ナトリウム金属内包シリコンクラスレートを合成した.2)X線構造解析により、Na_XSi_<46>およびNa_XSi_<136>構造(1.5<x<24)をもつ2種類のシリコンクラスレートの生成を確認できた。3)Na_3Si_<136>化合物の4KESRでは、Na原子による4本線の超微細分裂(HFS)が明瞭に観測できた。4)4K-300Kの温度域でNe原子のHFS強度の温度依存性を観測した。その結果、40K以下の低温域では常磁性キューリ則に従うが、温度上昇に従いキューリ則からのずれが大きくなることが解った。5)HFS強度の温度依存性の解析より、キューリ則からのずれは温度上昇に伴うナトリウム3_S電子の伝導帯への熱励起に帰属でき、Na原子と伝導体のエネルギー差として0.001eVが評価できた。さらに、Na原子のHFS値より、42%の電子はナトリウム3_S軌道に、残り58%の電子はシリコン骨格に分布していることも解った。
期刊论文(1)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
川治 均ら: "シリコンクラスレートおよび層状シリコンの合成、構造と物性" 表面科学. 18・3. 149-155 (1997)
Hitoshi Kawaji 等:“硅包合物和层状硅的合成、结构和物理性质”表面科学 18・3(1997)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
水素原子トンネル反応を利用するシリコン薄膜の極低温精密合成
  • 批准号:
    15550163
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $2.37万
  • 财政年份:
    2003
  • 负责人:
    塩谷 優
  • 依托单位:
カチオンラジカルの構造歪みと結合伸縮交替のダイナミックス
  • 批准号:
    04640473
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $1.28万
  • 财政年份:
    1992
  • 负责人:
    塩谷 優
  • 依托单位:
IVb族有機金属分子カチオンラジカルの構造、分子運動および反応
  • 批准号:
    03640428
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $1.28万
  • 财政年份:
    1991
  • 负责人:
    塩谷 優
  • 依托单位:
ESR 法による高分子の分子運動の異方性に関する研究
  • 批准号:
    59550602
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $1.22万
  • 财政年份:
    1984
  • 负责人:
    塩谷 優
  • 依托单位:
海外基金