Preparation of metal free silicon clathrates and the application to thermoelectric conversion materials
Preparation of metal free silicon clathrates and the application to thermoelectric conversion materials
无金属硅包合物的制备及其在热电转换材料中的应用
批准号：
23560377
负责人：
HABUCHI Hitoe
金额：
$3.49万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2011
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2011-04-28 至 2015-03-31
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キセノンイオンを注入したシリコンのアニールによる構造変化 II
注入氙离子的硅退火引起的结构变化 II
注入氙离子的硅退火引起的结构变化 II
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[北川 淳嗣, 藤田 詩織, 羽渕 仁恵, 飯田 民夫, 大橋 史隆, 伴 隆幸, 久米 徹二, 野々村 修一]
通讯作者：
野々村 修一
キセノンイオンを注入したシリコンのアニールによる構造変化
注入氙离子的硅退火导致结构变化
注入氙离子的硅退火导致结构变化
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Masaki Isai, Ikuta Nakamura, Yuki Hieda, Fumiya Fukazawa, and Yoichi Hoshi, 羽渕仁恵，藤田詩織，飯田民夫，大橋史隆，伴隆幸，久米徹二，野々村修一]
通讯作者：
羽渕仁恵，藤田詩織，飯田民夫，大橋史隆，伴隆幸，久米徹二，野々村修一
希ガス混合Si薄膜における酸素の低減化
稀有气体混合硅薄膜中的氧还原
稀有气体混合硅薄膜中的氧还原
DOI：
--
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Kazunari Shinbo, Hiroshi Ishikawa, Akira Baba, Yasuo Ohdaira, Keizo Kato, and Futao Kaneko, 奥村竜二，羽渕仁恵，飯田民夫，大橋史隆，伴 隆幸，久米徹二，野々村修一]
通讯作者：
奥村竜二，羽渕仁恵，飯田民夫，大橋史隆，伴 隆幸，久米徹二，野々村修一
SiおよびGeの希ガス混合薄膜の合成とそのクラスレート化
Si、Ge稀有气体混合物薄膜的合成及其笼形物的形成
Si、Ge稀有气体混合物薄膜的合成及其笼形物的形成
DOI：
--
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Kazunari SHINBO, Makoto IWASAKI, Yasuo OHDAIRA, Akira BABA, Keizo KATO, Futao KANEKO, 奥村竜二，羽渕仁恵，生田智隆，飯田民夫，大橋史隆，伴 隆幸，久米徹二，野々村修一]
通讯作者：
奥村竜二，羽渕仁恵，生田智隆，飯田民夫，大橋史隆，伴 隆幸，久米徹二，野々村修一
希ガス混合Si薄膜における酸素の低減化II
稀有气体混合硅薄膜中的氧还原 II
稀有气体混合硅薄膜中的氧还原 II
DOI：
--
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Yutaka Sawada1,a, Hayato Ohkubo1, Fig8 Changes in effective refractive index of the films at 633 nm due to incidence angle. Yoshiyuki Seki1, Keh-moh Lin2,b, Kazuyuki Sano1, Shigeyuki Seki3,c, Takayuki Uchida1 and Yoichi Hoshi, 奥村竜二，羽渕仁恵，飯田民夫，大橋史隆，伴 隆幸，久米徹二，野々村修一]
通讯作者：
奥村竜二，羽渕仁恵，飯田民夫，大橋史隆，伴 隆幸，久米徹二，野々村修一
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