立方晶炭化ケイ素の電子サイクロトロン共鳴プラズマ酸化によるダイヤモンドの合成
立方晶炭化ケイ素の電子サイクロトロン共鳴プラズマ酸化によるダイヤモンドの合成
批准号:
12875119
负责人:
後藤 孝
金额:
$1.15万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
2000
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2000 至 2001
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英文摘要
β-SiCはダイヤモンド構造を有し,電子サイクロトロン共鳴(ECR)プラズマを用い,CO-CO_2雰囲気中で酸化することにより,透明なダイヤモンド状の物質が得られることが示唆された.また,O_2およびAr-O_2雰囲気中400〜900Kで顕著な酸化膜の生成を伴う酸化が起こることがわかった.(III)面に強く配向したSiCでは,単結晶SiCと同様,Si面とC面の酸化挙動の違いが認められた.C面の方がSi面よりも酸化速度が大きく,C面では放物線則,Si面では対数則に従って酸化が進行した.Si面上に生成する酸化膜は非晶質のSiO_2であったが,C面上に生成する酸化膜は表面付近では非晶質SiO_2,中心部からSiCとの界面部分では非晶質Si-C-Oであった.SiCはGaNなどと同様,次世代のパワー半導体として期待されており,1000K以下の低温域で良好な酸化膜を表面に形成する方法が求められている.本研究によりCVD SiCがECRプラズマにより効率的に酸化することが初めて示され,SiCの応用の可能性が大きく広がった.また,CVD SiCをAr-O_2中でECRプラズマにより酸化することにより酸化膜(SiO_2)中に数nmの径の結晶質Siが微細に分散することがわかった.このようないわゆるナノコンポジットは新しい発光材料として期待されており,ECRプラズマ酸化が新しい材料合成プロセスとしても有用であることが示された.
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T.Goto: "Effect of oxygen partial pressure on the high-temperature oxidation of CVD SiC"Corrosion Science. 44・202. 359-370 (2001)
T.Goto:“氧分压对 CVD SiC 高温氧化的影响”腐蚀科学 44・202(2001 年)。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Takashi Goto: "Effect of oxygen partial pressure on the high-temperature oxidation of CVD SiC"Corrosion Science. (印刷中). (2001)
Takashi Goto:“氧分压对 CVD SiC 高温氧化的影响”《腐蚀科学》(出版中)。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
T.Goto: "Low temperature oxidation of CVD SiC by electron cyclotron resonance plasma"Materials Chemistry and Physics. (印刷中). (2002)
T.Goto:“电子回旋共振等离子体的 CVD SiC 低温氧化”材料化学与物理(出版中)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Takashi Goto: "High-temperature oxidation of CVD SiC in O_2 and CO_2 atmospheres"Proc.High-temperature Corrosion and Protection 2000. 461-467 (2000)
Takashi Goto:“O_2 和 CO_2 气氛中 CVD SiC 的高温氧化”Proc.高温腐蚀与防护 2000. 461-467 (2000)
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
T.Goto: "High-temperature active/passive oxidation and bubble formation of CVD SiC in O_2 and CO_2 atmosphere"J. European Ceramic Society. (印刷中). (2002)
T.Goto:“O_2 和 CO_2 气氛中 CVD SiC 的高温主动/被动氧化和气泡形成”J 欧洲陶瓷学会(2002 年)。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 6 条
フッ化物透明セラミックスによる新規レーザー材料の開発
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批准号:13F03066
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.47万
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财政年份:2013
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负责人:後藤 孝
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依托单位:
レーザー・プラズマハイブリッドCVDによる高配向超電導膜の高速合成
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批准号:11F01375
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.28万
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财政年份:2011
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负责人:後藤 孝
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依托单位:
新規回転式CVD法による高活性触媒材料の開発
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批准号:10F00365
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.83万
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财政年份:2010
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负责人:後藤 孝
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依托单位:
高生体適合性ハイドロキシアパタイトコーティング気相プロセスによる組織制御
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批准号:08F08370
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.28万
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财政年份:2008
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负责人:後藤 孝
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依托单位:
亜酸化ケイ素選択放射膜の傾斜機能化による放射冷却特性の高効率化
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批准号:17656208
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.79万
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财政年份:2005
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负责人:後藤 孝
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依托单位:
耐熱金属上への貴金属被覆による耐食性向上
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批准号:08225205
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.73万
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财政年份:1996
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负责人:後藤 孝
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依托单位:
熱電変換材料としてのホウ化ケイ素/ホウ化チタンナノコンポジットのCVDによる合成
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批准号:01550543
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.15万
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财政年份:1989
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负责人:後藤 孝
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依托单位:
CVD法による超塑性チタン-シリコン-炭素系三元化合物セラミックスの合成
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批准号:62750692
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1987
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负责人:後藤 孝
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依托单位:
高温強靭性セラミックスの開発
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批准号:60850130
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项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
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资助金额:$10.24万
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财政年份:1985
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负责人:後藤 孝
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依托单位:
化学気相析出法によるホウ化ケイ素の合成とその高温機能材料への応用
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批准号:60750690
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1985
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负责人:後藤 孝
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依托单位:
CVD法により合成したホウ素添加非晶質窒化ケイ素の高温機能材料への応用
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批准号:59750216
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1984
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负责人:後藤 孝
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依托单位:
化学気相析出法により合成した非晶質Si_3N_4-C複合材料のIC被覆としての応用
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批准号:57750233
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.48万
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财政年份:1982
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负责人:後藤 孝
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依托单位:
高温金属材料上への炭化ケイ素被覆における熱膨張緩和層の形成
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批准号:56750512
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1981
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负责人:後藤 孝
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依托单位:
海外基金