Massive Parallel Electron Beam Lithography System

大规模并行电子束光刻系统

• 批准号: 19101005
• 负责人: ESASHI Masayoshi
• 金额: $ 70.55万
• 依托单位: Tohoku University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (S)
• 财政年份: 2007
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2007 至 2011
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-19101005/
• 关键词: MEMS; 電子描画装置; 並列電子線描画; 光制御電子源; セルフアセンブル; マスクレス露光; カーボンナノチューブ; 電子線描画; マイクロマシニング; 電子線描画装置; ダイアモンド; MEHS

The fabrication method for emitter with carbon nanotube at the top of the tip, optically controllable emitter, micro stage and the novel method for fabricate electro static electron rends are studied as one of the components of the massive parallel electron beam lithography system. With these components, prototype of the EB system was fabricated.

作为大规模平行电子束光刻系统的组成部分之一，研究了尖端碳纳米管发射极的制作方法、可控发射极、微工作台以及静电电子束的制作方法。利用这些元件，制作了电子束系统的原型。

项目成果

Bonding of a Si microstrcuture using filed-assisted glass melting

使用场辅助玻璃熔化粘合硅微结构

• 发表时间: 2008
• 期刊: Journal of Micromechanics and Microengineering 18
• 作者: Hironori Seki;Takahito Ono;Yusuke Kawai and Masayoshi Esashi
• 通讯作者: Yusuke Kawai and Masayoshi Esashi

Photolithographic fabrication of gated self-aligned parallel electron beamemitters with a single-stranded carbon nanotube

单链碳纳米管门控自对准平行电子束发射器的光刻制造

• 发表时间: 2008
• 期刊: Nanotechnology 19
• 作者: Justin Ho;Takahito Ono;Ching-Hsine Tsai. Masavoshi Esashi
• 通讯作者: Ching-Hsine Tsai. Masavoshi Esashi

光制御型並列電子源

光控并联电子源

• 发表时间: 2010
• 作者: Garcon;F.;Sasaki;T.(7名中6番);Okkenhaug;K.;友納栄一
• 通讯作者: 友納栄一

MEMS/NEMS工学全集, 桑野博喜監修, テクノシステム

MEMS/NEMS 工程全集，由 Techno System 的 Hiroki Kuwano 监督

• 发表时间: 2009
• 作者: 大平充宣;後藤勝正;小野崇人
• 通讯作者: 小野崇人

Fabrication of Einzel lens array with one-mask RIE process for electron micro-optics

用于电子微光学的单掩模 RIE 工艺制造 Einzel 透镜阵列

• 发表时间: 2009
• 作者: Moteki;N.;Y. Kondo;N. Takegawa;S. Nakamura;Eiichi Tomono
• 通讯作者: Eiichi Tomono