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Study on nanoscale chemical reaction for the establishment of scientific foundation of ultrafine patterning using extreme ultraviolet radiation

Study on nanoscale chemical reaction for the establishment of scientific foundation of ultrafine patterning using extreme ultraviolet radiation
纳米化学反应研究为极紫外辐射超精细图案化奠定科学基础
批准号：
19360428
负责人：
KOZAWA Takahiro
金额：
$12.23万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2007
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2007 至 2009
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-19360428/
关键词：
放射線X線粒子線半導体超微細化シミュレーション工学計算物理放射線、X線、粒子線極端紫外光微細加工ナノ空間放射線化学レジストリソグラフィ二次電子有機材料

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
通过对用于半导体器件量产的抗蚀剂模型材料的脉冲辐射分析，阐明了抗蚀剂图案形成的反应机理和反应中间体的空间分布。在反应机理的基础上，开发了蒙特卡罗模拟程序。
英文摘要
The reaction mechanism of resist pattern formation and the spatial distribution of reactive intermediates were clarified through the pulse radiolysis of model materials for the resists used for the mass-production of semiconductor devices. On the basis of the reaction mechanisms, a Monte Carlo simulation code was developed.
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会议论文
Dynamics of Radical Cation of Poly(4-hydroxystyrene) and Its Copolymer for Extreme Ultraviolet and Electron Beam Resists
聚(4-羟基苯乙烯)及其共聚物的自由基阳离子动力学用于极紫外和电子束抗蚀剂
DOI： --
发表时间： 2009
期刊： Jpn. J. Appl. Phys 48巻
影响因子： --
作者： [K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Tagawa]
通讯作者： S. Tagawa
Point Spread Function for the Calculation of Acid Distribution in Chemically Amplified Resists Used for Electron-Beam Lithography
用于计算电子束光刻用化学放大抗蚀剂中酸分布的点扩散函数
DOI： --
发表时间： 2007
期刊： Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子： --
作者： [T. Kozawa, S. Tagawa]
通讯作者： S. Tagawa
heoretical Study on the Dependence of Acid Distribution on Material Properties of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists
酸分布对化学增强极紫外光刻胶材料性能依赖性的理论研究
DOI： --
发表时间： 2008
期刊： Jpn. J. Appl. Phys 47巻
影响因子： --
作者： [T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell]
通讯作者： M. Shell
Theoretical Study on the Dependence of Acid Distribution on Material Properties of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists
酸分布对化学放大极紫外光刻胶材料性能依赖性的理论研究
DOI： --
发表时间： 2008
期刊： Jpn. J. Appl. Phys. 47
影响因子： --
作者： [T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell]
通讯作者： M. Shell
共 15 条
    Study on nanoscale chemical reactions and reaction sites using quantum beams
    • 批准号：
      22246128
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额：
      $21.96万
    • 财政年份：
      2010
    • 负责人：
      KOZAWA Takahiro
    • 依托单位：
      Osaka University
    Study on the expanse of thermalized electrons in condensed matters
    • 批准号：
      21656238
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额：
      $2.03万
    • 财政年份：
      2009
    • 负责人：
      KOZAWA Takahiro
    • 依托单位：
      Osaka University
    海外基金