Preparation of nanoparticle magnetic recording media by gas flow sputtering
Preparation of nanoparticle magnetic recording media by gas flow sputtering
批准号:
19560333
负责人:
ISHII Kiyoshi
金额:
$3.0万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2007
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2007 至 2008
中文摘要
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
本研究では、宇都宮大学独自のガスフロースパッタ法を用いることにより、次世代の超高密度ハードディスク磁気記録媒体の実現を目指して、ナノ磁性粒子(次世代では太さが10nm、次次世代では5nm程度の縦長粒子または球形粒子)を敷き詰めた構造のナノ粒子薄膜の開発を目指した。その結果、幅約10 nmの柱状の粒子からなるCo-Ptナノ粒子構造薄膜作製に成功した。さらに、より大きな結晶磁気異方性を有するL10構造FePtについて同様な粒子構造を実現することを目指した。通常のスパッタ法では基板を加熱しないとL10構造の薄膜は得られないが、ガスロースパッタ法では基板加熱のない状態においても、規則度は低いがL10構造に規則化した薄膜が成長することを見出し、ナノ粒子構造の形成の可能性を明らかにした。
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
Modification of Lattice Parameter and Morphology of Pt Und er-Layer and Effects on Magnetic Properties of Co-Pt Nanopillars
层下 Pt 晶格参数和形貌的修饰及其对 Co-Pt 纳米柱磁性能的影响
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
--
作者:
[山口利幸, 浅井康孝, 湯船幸志, 新山茂利, 今西敏人, Yoko Satou 他, 山口利幸, Hironobu Suzuki 他, 山口利幸, Hiroshi Sakuma 他]
通讯作者:
Hiroshi Sakuma 他
Gas flow sputtering : a versatile process for the growth of nanoparticles, nanopillars, and epitaxial thin films
气流溅射:一种用于纳米颗粒、纳米柱和外延薄膜生长的通用工艺
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
--
作者:
[H. Sakuma, K. Ishii]
通讯作者:
K. Ishii
ガスフロースパッタプロセスにおけるFeナノ粒子の成長と堆積
气流溅射过程中 Fe 纳米颗粒的生长和沉积
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
影响因子:
--
作者:
[小林貴志, 他]
通讯作者:
他
Estimation of optimum ion energy for the reduction of resistivity in bias sputtering of ITO thin films
ITO 薄膜偏压溅射中降低电阻率的最佳离子能量估算
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
IEICE TRANSACTIONS on Electronics vol. E91-C
影响因子:
--
作者:
[K. Ishii, Y. Saitou, K. Furutani, H. Sakuma, Y. Ikeda]
通讯作者:
Y. Ikeda
Epitaxial Growth of Fe_3O_4 on GaAs by Gas Flow Sputtering
气流溅射在GaAs上外延生长Fe_3O_4
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
Transactions of the Materials Research Society of Japan vol. 33
影响因子:
--
作者:
[H. Sakuma, S. Hiyama, T. Kashiwakura, K. Ishii]
通讯作者:
K. Ishii
共 25 条
Research for Syrian Refugee with Disabilities in Turkey
-
批准号:16H07153
-
项目类别:Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
-
资助金额:$1.83万
-
财政年份:2016
-
负责人:ISHII Kiyoshi
-
依托单位:
Preparation and characterization of Fe fine particles with various shapes
-
批准号:24560363
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
-
资助金额:$3.49万
-
财政年份:2012
-
负责人:ISHII Kiyoshi
-
依托单位:
A research ofmoral education based on critical practice
-
批准号:22520017
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
-
资助金额:$1.0万
-
财政年份:2010
-
负责人:ISHII Kiyoshi
-
依托单位:
Preparation of nanoparticle recording media for next-generation magnetic recording
-
批准号:21560348
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
-
资助金额:$3.0万
-
财政年份:2009
-
负责人:ISHII Kiyoshi
-
依托单位:
Analyses of factors that determine the context dependency of conditioned aversion
-
批准号:15530469
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
-
资助金额:$1.73万
-
财政年份:2003
-
负责人:ISHII Kiyoshi
-
依托单位:
Unified understanding of retarding and facilitating effect of stimulus preexposure
-
批准号:13610082
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
-
资助金额:$1.54万
-
财政年份:2001
-
负责人:ISHII Kiyoshi
-
依托单位:
Soft magnetic properties appeared in magnetic granular system with frustrated interactions between the particles
-
批准号:13650003
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
-
资助金额:$1.98万
-
财政年份:2001
-
负责人:ISHII Kiyoshi
-
依托单位:
Synthesis of Magnetic Granular Materials with GMR and Soft Magnetic Properties by Cluster Deposition Technique
-
批准号:11650004
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
-
资助金额:$2.37万
-
财政年份:1999
-
负责人:ISHII Kiyoshi
-
依托单位:
The study on interaction between habituation and latent inhibition effect
-
批准号:08610079
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
-
资助金额:$1.41万
-
财政年份:1996
-
负责人:ISHII Kiyoshi
-
依托单位:
Study on Giant Magnetoresistance of Magnetic-particle-dispersed Metal Films
-
批准号:06650353
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
-
资助金额:$1.28万
-
财政年份:1994
-
负责人:ISHII Kiyoshi
-
依托单位:
A Study of the Behavioural Modification of the House Musk Shrew in the Process of Domestication
-
批准号:60450012
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
-
资助金额:$3.39万
-
财政年份:1985
-
负责人:ISHII Kiyoshi
-
依托单位:
海外基金