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Development of high speed nitriding process in solid phase with controlled micro alloying elements

可控微合金元素固相高速渗氮工艺的开发

基本信息

批准号：
21760594
负责人：
YOSHIDA Masashi
金额：
$ 2.91万
依托单位：
Shizuoka Institute of Science and Technology (2010)Hiroshima Kokusai Gakuin University (2009)
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2009
资助国家：
日本
起止时间：
2009 至 2010
项目状态：
已结题

项目摘要

A novel method for the production of aluminum nitride is developed in this study. Aluminum nitride layers with high adhesion and high thick can be formed on aluminum surfaces using this method. The effect of alloying elements on the formation of aluminum nitride is also investigated. As the results, the growth of the nitride layer is obstructed by the copper and silicon in the alloying elements. The growth of the nitride layer is promoted by magnesium elements. Furthermore, the growth of the nitride layer also influences the microstructure as a grain boundary.

本研究开发了一种生产氮化铝的新方法。使用该方法可以在铝表面形成具有高附着力和高厚度的氮化铝层。还研究了合金元素对氮化铝形成的影响。结果，氮化物层的生长受到合金元素中的铜和硅的阻碍。镁元素促进氮化物层的生长。此外，氮化物层的生长也影响作为晶界的微观结构。

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Surface Modification of Aluminum alloy Using a Barrel Nitriding

使用滚筒渗氮对铝合金进行表面改性

DOI：
发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
0
作者：
奥宮正洋;吉田昌史 et al.
通讯作者：
吉田昌史 et al.

A Novel Method for the Production of AIN Film with High Adhesion on Al Substrate

一种在铝基体上制备高附着力氮化铝薄膜的新方法

DOI：
发表时间：
2009
期刊：
Journal of Plasma Fusion Research Series 8
影响因子：
0
作者：
M.Yoshida;M.Okumiya et al.
通讯作者：
M.Okumiya et al.

Influence of Magnesium on Formation and Growth of Nitride Layer on Aluminum Substrate

镁对铝基体氮化层形成和生长的影响

DOI：
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
0
作者：
M.Yoshida;M.Okumiya;Y.Tsunekawa
通讯作者：
Y.Tsunekawa

A Novel Method for the Production of AlN Film with High Adhesion on Al Substrate

一种在铝基体上制备高附着力氮化铝薄膜的新方法

DOI：
发表时间：
2009
期刊：
journal of Plasma Fusion Research Series Vol.8
影响因子：
0
作者：
M.Yoshida;M.Okumiya;R.Ichiki;C.Tekmen;W.Khalifa;Y.Tsunekawa;T.Hara
通讯作者：
T.Hara

Influence of Process Parameters on Aluminum Nitriding by Electron Beam Excited Plasma

工艺参数对电子束激发等离子体渗氮铝的影响

DOI：
发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
0
作者：
M.Yoshida;M.Okumiya;R.Ichiki;T.Hara;Y.Tsunekawa
通讯作者：
Y.Tsunekawa

DOI：
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0
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通讯作者：
Hideo Sasakura