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Porenätzung in Germanium

Porenätzung in Germanium
锗中的孔隙蚀刻
批准号:
5404794
负责人:
Professor Dr. Helmut Föll
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
2003
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
2002-12-31 至 2008-12-31
关键词:

项目摘要

项目成果

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Poröse Halbleiter sind aus zwei Gründen von großem Interesse: 1. Ungewöhnliche und oft noch unverstandene Eigenschaften dieser oft mesoskopischen oder nanoskopischen Systeme eröffnen neue Forschungsfelder mit hohem Anwendungspotential. 2. Der Mechanismus der Porenbildung ist trotz intensiver Forschung noch nicht sehr gut verstanden. Der letzte Punkt wird sehr deutlich belegt durch erste Versuche zur Porenätzung in Ge: Niemand war oder ist in der Lage Ätzungsergebnisse vorherzusagen, und selbst vage Vermutungen der Kieler Arbeitsgruppe wurden zunächst nicht bestätigt. Porenätzung in Germanium ist jedoch von großem Interesse, einerseits um ein besseres Verständnis der Porenätzung in Halbleitern zu erzielen, andererseits weil schon die Ergebnisse erster orientierender Versuche zu sehr interessanten Strukturen mit hohem Anwendungspotential führten. Beantragt wird Unterstützung für eine systematische Studie der Porenätzung in Ge. Es ist geplant, das Projekt in ein NSF-DFG-Kooperationsvorhaben einzubringen.
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