Rationales Design von neuen Materialien für die Mikroelektronik

在低k和高k的新材料的研究中，我们将继续努力，以获得积极的成果。低介电常数材料的物理化学性质和硅倍半硅氧烷膜的研究进展。Als neue Ansätze verfolgen wir folgende Schwerpunkte：- Modulation der dielektrischen Eigenschaften - Verständnis der dynamischen Veränderungen bei der Herstellung von Composit-Filmen -Einfluencer der chemischen Funktionalität bei der Degradation von Polymerfilmen - Nukleation und Oberflächenmodification von Nanopartikeln Insbesondere韦尔登Composit-Materialien mit niedriger or der nach Bedarf einstrumberdielektrizitätskonstante gezielt synthetisiert und in Hinblick auf ihre physikalisch-化学特征此外，韦尔登还合成了一种新的有机前驱体，它具有一种用于高k材料和硅化物的聚集体。该Zusammenarbeit mit den Versatile partnern im Forschungsschwerpunkt soll es ermöglichen，physikalische Meßmethoden für die Charakterisierung von high-and low-k Materialien gemeinsam zu nutzen and weiter zu entwickeln sowie die Materialien and Precursoren unter den Prozessbedingungen der Elektrotechnik zu testen.

Aufgrund der bisherigen positiven Ergebnisse wollen wir in dem beantragten Forschungsvorhaben die Herstellung neuer Materialien für low-k und high-k Anwendungen sowie die Silberabscheidung weiter entwickeln. Auf dem Thema der low-k-Materialien soll die physikalische Chemie in und an Silsequioxan-Filmen untersucht werden. Als neue Ansätze verfolgen wir folgende Schwerpunkte: - Modulation der dielektrischen Eigenschaften - Verständnis der dynamischen Veränderungen bei der Herstellung von Composit-Filmen - Einfluß der chemischen Funktionalität bei der Degradation von Polymerfilmen - Nukleation und Oberflächenmodifikation von Nanopartikeln Insbesondere werden Composit-Materialien mit niedriger oder nach Bedarf einstellbarer Dielektrizitätskonstante gezielt synthetisiert und in Hinblick auf ihre physikalisch-chemischen Eigenschaften charakterisiert. Weiterhin werden Synthesewege zu neuen organometallischen Precursoren mit einstellbarem Aggregatszustand für die Herstellung von high-k-Materialien und die Silberabscheidung entwickelt. Die Zusammenarbeit mit den Verbundpartnern im Forschungsschwerpunkt soll es ermöglichen, physikalische Meßmethoden für die Charakterisierung von high- und low-k Materialien gemeinsam zu nutzen und weiter zu entwickeln sowie die Materialien und Precursoren unter den Prozessbedingungen der Elektrotechnik zu testen.