Bond engineering in quantum dot formation mechanism
量子点形成机制中的键工程
基本信息
- 批准号:16K04962
- 负责人:
- 金额:$ 3.16万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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Atomistic behaviour of (n ×3)-reconstructed areas of InAs-GaAs(001) surface at the growth condition
生长条件下InAs-GaAs(001)表面(n×3)重建区域的原子行为
- DOI:10.1016/j.jcrysgro.2017.01.009
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Konishi Tomoya;Tsukamoto Shiro;Ito Tomonoroi;Akiyama Toru;Kaida Ryo
- 通讯作者:Kaida Ryo
Size evolution of (n×3) reconstructed domains on growing InAs-GaAs(001) surface
生长InAs-GaAs(001)表面上(n×3)重构域的尺寸演变
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Tomoya Konishi;Shiro Tsukamoto;Tomonori Ito;Toru Akiyama;Ryo Kaida
- 通讯作者:Ryo Kaida
Advances in Computer Simulation Studies and Crystal Growth
计算机模拟研究和晶体生长的进展
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Hiroki Nada;Tomonori Ito;Toru Akiyama他
- 通讯作者:Toru Akiyama他
Theoretical study for misfit dislocation formation at InAs/GaAs(001) interface
- DOI:10.1016/j.jcrysgro.2016.10.064
- 发表时间:2016-02
- 期刊:
- 影响因子:1.8
- 作者:Ryo Kaida;T. Akiyama;K. Nakamura;T. Ito
- 通讯作者:Ryo Kaida;T. Akiyama;K. Nakamura;T. Ito
Ab initio-based approach to novel behavior in semiconductor hetero-epitaxial growth
基于从头计算的半导体异质外延生长新行为的方法
- DOI:10.1016/j.jcrysgro.2017.03.010
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Ito Tomonori;Akiyama Toru;Nakamura Kohji
- 通讯作者:Nakamura Kohji
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
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- 影响因子:1.8
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Ito Tomonori
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藤本 将秀,松本 益明,山﨑史也,長塚 直樹,福谷 克之
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2019 - 期刊:
- 影响因子:1.5
- 作者:
Hasegawa Yuya;Akiyama Toru;Pradipto Abdul-Muizz;Nakamura Kohji;Ito Tomonori - 通讯作者:
Ito Tomonori
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- DOI:
10.1142/s0217984921300015 - 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:1.9
- 作者:
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Fujimoto Yoshitaka
層状結晶MoX2(X=S, Se)のラマン散乱と光学フォノン温度の測定
层状晶体MoX2(X=S,Se)的拉曼散射和光学声子温度的测量
- DOI:
- 发表时间:
2022 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
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劉 鋭安,宮田 全展,小矢野 幹夫
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
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19K05268 - 财政年份:2019
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$ 3.16万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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