Bond engineering in quantum dot formation mechanism
量子点形成机制中的键工程
基本信息
- 批准号:16K04962
- 负责人:
- 金额:$ 3.16万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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Advances in Computer Simulation Studies and Crystal Growth
计算机模拟研究和晶体生长的进展
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Hiroki Nada;Tomonori Ito;Toru Akiyama他
- 通讯作者:Toru Akiyama他
Atomistic behaviour of (n ×3)-reconstructed areas of InAs-GaAs(001) surface at the growth condition
生长条件下InAs-GaAs(001)表面(n×3)重建区域的原子行为
- DOI:10.1016/j.jcrysgro.2017.01.009
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Konishi Tomoya;Tsukamoto Shiro;Ito Tomonoroi;Akiyama Toru;Kaida Ryo
- 通讯作者:Kaida Ryo
Size evolution of (n×3) reconstructed domains on growing InAs-GaAs(001) surface
生长InAs-GaAs(001)表面上(n×3)重构域的尺寸演变
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Tomoya Konishi;Shiro Tsukamoto;Tomonori Ito;Toru Akiyama;Ryo Kaida
- 通讯作者:Ryo Kaida
Theoretical Investigations for Surface Reconstructions of Submonolayer InAs Grown on GaAs(001)
GaAs(001)上生长的亚单层InAs表面重构的理论研究
- DOI:10.1002/pssa.201800476
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Ito Tomonori;Akiyama Toru;Nakamura Kohji;Pradipto Abdul-Muizz
- 通讯作者:Pradipto Abdul-Muizz
Ab initio-based approach to novel behavior in semiconductor hetero-epitaxial growth
基于从头计算的半导体异质外延生长新行为的方法
- DOI:10.1016/j.jcrysgro.2017.03.010
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Ito Tomonori;Akiyama Toru;Nakamura Kohji
- 通讯作者:Nakamura Kohji
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
Ito Tomonori其他文献
原子状水素曝露によるチタニアナノ粒子 の構造変化
由于原子氢暴露导致二氧化钛纳米颗粒的结构变化
- DOI:
- 发表时间:
2019 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Seta Yuki;Pradipto Abdul-Muizz;Akiyama Toru;Nakamura Kohji;Ito Tomonori;金表面笠原奈央,小林卓也,谷口淳子,鈴木勝,佐々木成朗,石川誠,三浦浩治;藤本 将秀,松本 益明,山﨑史也,長塚 直樹,福谷 克之 - 通讯作者:
藤本 将秀,松本 益明,山﨑史也,長塚 直樹,福谷 克之
Absolute surface energies of semipolar planes of AlN during metalorganic vapor phase epitaxy growth
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10.1016/j.jcrysgro.2018.12.011 - 发表时间:
2019 - 期刊:
- 影响因子:1.8
- 作者:
Seta Yuki;Akiyama Toru;Pradipto Abdul Muizz;Nakamura Kohji;Ito Tomonori - 通讯作者:
Ito Tomonori
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BAlN 和 BGaN 合金结构稳定性和混溶性的理论研究:键序原子间势计算
- DOI:
10.7567/1347-4065/ab06af - 发表时间:
2019 - 期刊:
- 影响因子:1.5
- 作者:
Hasegawa Yuya;Akiyama Toru;Pradipto Abdul-Muizz;Nakamura Kohji;Ito Tomonori - 通讯作者:
Ito Tomonori
Quantum transport, electronic properties and molecular adsorptions in graphene
石墨烯中的量子输运、电子特性和分子吸附
- DOI:
10.1142/s0217984921300015 - 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:1.9
- 作者:
Akiyama Toru;Tsuboi Yuma;Nakamura Kohji;Ito Tomonori;Fujimoto Yoshitaka - 通讯作者:
Fujimoto Yoshitaka
Theoretical investigations on the growth mode of GaN thin films on an AlN(0001) substrate
AlN(0001)衬底上GaN薄膜生长模式的理论研究
- DOI:
10.7567/1347-4065/ab06b1 - 发表时间:
2019 - 期刊:
- 影响因子:1.5
- 作者:
Tsumuki Shinnosuke;Akiyama Toru;Pradipto Abdul-Muizz;Nakamura Kohji;Ito Tomonori - 通讯作者:
Ito Tomonori
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
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Bond engineering for quantum dot formation in nitride semiconductors
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19K05268 - 财政年份:2019
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03F00055 - 财政年份:2003
- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
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- 批准号:
05211206 - 财政年份:1993
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- 批准号:
04227217 - 财政年份:1992
- 资助金额:
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- 批准号:
04750246 - 财政年份:1992
- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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- 批准号:
04650016 - 财政年份:1992
- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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- 批准号:
04205118 - 财政年份:1990
- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
MBE法によるカルコパライト型IーIIIーVI_2族化合物のヘテロエピタキシャル成長
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- 批准号:
02205105 - 财政年份:1990
- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas














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