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Elucidation of fine polishing mechanism by measuring interfacial potential during chemical mechanical polishing
通过测量化学机械抛光过程中的界面电位来阐明精细抛光机制
基本信息
- 批准号：16K06009
- 负责人：
- 金额：$ 3万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2016
- 资助国家：日本
- 起止时间：2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Evaluation of hydration free energy of glass by electric potential change during chemical mechanical polishing
通过化学机械抛光过程中电势变化评价玻璃的水合自由能
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：S. Suda;R. Fukuzaki;K. Kawahara
- 通讯作者：K. Kawahara
ガラスのCMPにおける水和自由エネルギーの評価
玻璃CMP中水合自由能的评价
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：T. Sugimoto;S. Suda;K. Kawahara;福嵜遼，須田聖一
- 通讯作者：福嵜遼，須田聖一
Chemical mechanical polishing of glass
玻璃化学机械抛光
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：T. Sugimoto;S. Suda;K. Kawahara;S. Suda
- 通讯作者：S. Suda
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氧化铈陶瓷晶界特征与电性能的相关性
- 批准号：
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- 资助金额：
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- 批准号：
18039018 - 财政年份：2006
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
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利用瞬态红外光谱直接观察分子内电荷转移反应中的结构变形
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16550004 - 财政年份：2004
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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超快时间分辨电场调制光谱的发展及其在电荷转移反应中的应用
- 批准号：
15655001 - 财政年份：2003
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
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- 批准号：
14040220 - 财政年份：2002
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
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