Development of Rare-metal-free Ga-Sn-O electron devices with defect evaluation

开发具有缺陷评估功能的无稀有金属 Ga-Sn-O 电子器件

基本信息

  • 批准号:
    16K06733
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.16万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2016
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2016-04-01 至 2020-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Rare-metal-free high-performance Ga-Sn-O thin film transistor.
  • DOI:
    10.1038/srep44326
  • 发表时间:
    2017-03-14
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.6
  • 作者:
    Matsuda T;Umeda K;Kato Y;Nishimoto D;Furuta M;Kimura M
  • 通讯作者:
    Kimura M
Evaluation of Defects in Oxide Semiconductors using Electron Spin Resonance (ESR)
使用电子自旋共振 (ESR) 评估氧化物半导体中的缺陷
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Tokiyoshi Matsuda;and Mutsumi Kimura
  • 通讯作者:
    and Mutsumi Kimura
Development of Two-Layered ReRAM using Ga-Sn-O Thin Film
使用 Ga-Sn-O 薄膜开发两层 ReRAM
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Ayata Kurasaki;Sumio Sugisaki;Ryo Tanaka;Tokiyoshi Matsuda;and Mutsumi Kimura
  • 通讯作者:
    and Mutsumi Kimura
Characteristic Analysis of Ga-Sn-O TFT Subjected to UV Annealing Treatment
紫外退火处理的Ga-Sn-O TFT特性分析
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Tanino;R. Takagi;M. Kimura;and T. Matsuda
  • 通讯作者:
    and T. Matsuda
酸化物半導体の研究開発と電子デバイスへの新規応用
氧化物半导体的研发及其在电子器件中的新应用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    木村 睦;松田 時宜
  • 通讯作者:
    松田 時宜
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SML#の並列処理機能とその性能
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    0
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  • 通讯作者:
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関係代数を基礎とするプログラムに現れる名前解析システム
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  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 影响因子:
    0
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  • 通讯作者:
    大堀淳,上野雄大
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  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Takishita Yuta;Kobayashi Masaki;Hattori Kazuki;Matsuda Tokiyoshi;Sugisaki Sumio;Nakashima Yasuhiko;Kimura Mutsumi;Satoshi Yoshida
  • 通讯作者:
    Satoshi Yoshida
押し込み試験中のガラスの応力分布とクラック発生挙動の関係
压痕试验时玻璃应力分布与裂纹产生行为的关系
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kimura Mutsumi;Umeda Kenta;Ikushima Keisuke;Hori Toshimasa;Tanaka Ryo;Shimura Junpei;Kondo Atsushi;Tsuno Takumi;Sugisaki Sumio;Kurasaki Ayata;Hashimoto Kaito;Matsuda Tokiyoshi;Kameda Tomoya;Nakashima Yasuhiko;浅井 敬祐,吉田 智,山田 明寛,松岡 純,アンドレイ エラパルト,チャールズ カーキャン
  • 通讯作者:
    浅井 敬祐,吉田 智,山田 明寛,松岡 純,アンドレイ エラパルト,チャールズ カーキャン
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通过扫描内部光电显微镜绘制 α-Ga2O3 肖特基接触的界面反应
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    2019
  • 期刊:
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    2.1
  • 作者:
    Shiojima Kenji;Kambara Hitoshi;Matsuda Tokiyoshi;Shinohe Takashi
  • 通讯作者:
    Shinohe Takashi

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    11J55212
  • 财政年份:
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  • 资助金额:
    $ 3.16万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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  • 批准号:
    09J02930
  • 财政年份:
    2009
  • 资助金额:
    $ 3.16万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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  • 批准号:
    20656059
  • 财政年份:
    2008
  • 资助金额:
    $ 3.16万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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知道了