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無触媒窒化物系ナノワイヤの有機金属化合物気相成長と太陽光発電素子応用

非催化氮化物纳米线有机金属化合物气相生长及其在太阳能发电装置中的应用

基本信息

批准号：
16F14366
负责人：
天野浩
金额：
$ 0.77万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2016
资助国家：
日本
起止时间：
2016-04-22 至 2017-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16F14366/
关键词：
Gallium Nitride nanowire nanorod solar cells Pulsed-mode growth MOCVD nonpolar GaN on Si

项目摘要

In this study, we have focused on the “InGaN/GaN core-shell nanowire-based solar cells”. Accompanying to the superior properties of GaN core nanowire array, the use of InGaN materials is able to cover the almost all solar spectral range from 0.7 eV to 3.4 eV. This can open up the new chance for III-V solar cells to overcome the performance of traditional inorganic solar cells, which are based on Si or GaAs materials. As this project comes to the last year, we studied many optical and material properties of GaN-based nanowires. In particular, we performed the growth of GaN nanowires with various templates. It gives rise to new chance to demonstrate optoelectronic devices with controlled orientation and morphology. As a result, we have reported three SCI papers and nine international conference talks. Also, international collaboration has simulaneously been carried out with South Korea and France with the similar project topics. These international joint research inspired us to study deeply about the "InGaN-based solar cells". Although we are sure that we contributed many points on the development of the topic, still many rooms remained to demonstrate the high efficiency devices. Therefore, the continuation of the work for this project is really necessary to advance the nanowire-based optoelectronics.

在这项研究中，我们重点研究了“InGaN/GaN核壳纳米线基太阳能电池”。随着GaN核心纳米线阵列的优越性能，InGaN材料的使用能够覆盖0.7 eV至3.4 eV的几乎所有太阳光谱范围。这可以为III-V型太阳能电池提供新的机会，以克服基于Si或GaAs材料的传统无机太阳能电池的性能。随着这个项目进入去年，我们研究了氮化镓基纳米线的许多光学和材料特性。特别是，我们用各种模板进行了GaN纳米线的生长。它为展示具有可控取向和形态的光电器件提供了新的机会。共发表SCI论文3篇，国际会议演讲9次。与韩国、法国等国同时开展了类似课题的国际合作。这些国际联合研究激发了我们对“ingan基太阳能电池”的深入研究。虽然我们确信我们对该主题的发展贡献了许多点，但仍然有许多空间需要演示高效设备。因此，本课题的继续研究对于推进纳米线光电子学的发展是非常有必要的。

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Study of AlN Nucleation by Directional Sputtering for Growth of Orientation-Controlled GaN on Si(001) Substrates

Si(001) 衬底上定向溅射 AlN 成核用于定向控制 GaN 生长的研究

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
H. J. Lee;S. Y. Bae;K. Lekhal;A. Tamura;Y. Honda;and H. Amano
通讯作者：
and H. Amano

Control of the growth plane of semipolar GaN on Si (001) by adjusting the direction of sputtered AlN buffer layer

通过调节溅射AlN缓冲层的方向控制Si(001)上半极性GaN的生长面

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
H. J. Lee;S. Y. Bae;K. Lekhal;T. Suzuki;M. Deki;Y. Honda;and H. Amano
通讯作者：
and H. Amano

Reduction of leakage current density in homoepitaxial m-plane GaN by controlling V/III ratios for high-power device applications

通过控制高功率器件应用的 V/III 比率来降低同质外延 m 面 GaN 的漏电流密度

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
O. 1 Barry;A. Tanaka ;K. Nagamatsu;S. Y. Bae;K. Lekhal;M. Deki;S. Nitta;Y. Honda;H. Amano
通讯作者：
H. Amano

Universite Clermont Auvergne/Institute Pascal(France)

克莱蒙奥弗涅大学/帕斯卡研究所（法国）

DOI：
发表时间：
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

Controlled morphology of regular GaN microrod arrays by selective area growth with HVPE

通过 HVPE 选择性区域生长控制规则 GaN 微棒阵列的形貌

DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2016.05.008
发表时间：
2016
期刊：
Journal of Crystal Growth
影响因子：
1.8
作者：
Kaddour Lekhal;Si-Young Bae;Ho-Jun Lee;Tadashi Mitsunari;Akira Tamura;Manato Deki;Yoshio Honda;Hiroshi Amano
通讯作者：
Hiroshi Amano