Herstellung und Charakterisierung nanoskaliger Formgedächtnis-Schichtobjekte - Skalierungseffekte und Grenzen der reversiblen martensitischen Transformation

纳米级形状记忆层状物体的制造和表征——可逆马氏体转变的尺度效应和限制

基本信息

项目摘要

Dieses Projekt erstrebt die Schaffung der Grundlagen einer Anwendung von Formgedächtnis- Werkstoffen (FG-Werkstoffe) im Bereich der Nanotechnik. Dazu muss das Skalierungsverhalten der FG-Werkstoffe im Bereich der Nanotechnik geklärt werden, d.h. welchen Einfluss eine Reduzierung der Abmessungen von FG-Materialien in den Nanometer-Bereich auf deren funktioneile Eigenschaften hat und ob es Grenzen der reversiblen martensitischen Umwandlung gibt. Die dazu erforderlichen Herstellungs- und Charakterisierungsverfahren werden speziell für dieses Projekt adaptiert und weiterentwickelt. Die Präparation der FG-Nano-Objekte erfolgt aus gesplitterten dünnen Schichten vorrangig mittels „Focused Ion Beam (FIB) Nanostrukturierung. An den Nano-Objekten werden strukturelle und funktionelle Eigenschaften gemessen und korreliert. Zur quantitativen Charakterisierung von FG-Effekten an Nano-Objekten kommen insbesondere in situ Elektronenmikroskopiemethoden (thermisch, mechanisch, elektrisch) zum Einsatz. Diese Methoden werden u.a. eingesetzt, um neue in Simulationen vorhergesagte, FG-Nanowerkstoffe zu verifizieren.
该项目是在纳米技术领域的一个基础工程--成型工具(FG-工具)的应用。在韦尔登技术领域,大足必须对FG-Werkstoffe进行改进。在纳米材料中,FG材料的吸收对功能特性的影响是可逆的马氏体相变的基础。Die dazu erforderlichen Herstellungs- und Charakterisierungsverfahren韦尔登speziell für dieses Projekt adaptiert und weiterentwickelt. Die Präparation der FG-纳米物体erfolgt aus gesplitterten dünnen Schichten vorrangig mittels“聚焦离子束(FIB)纳米结构。纳米物体韦尔登结构和功能是固有的和可信赖的。FG-Effekten an Nano-Objekten kommen insbesondere in situ Elektronenmikroskopiemethoden(thermisch,mechanisch,elektrisch)zum Einstein的定量特征。Diese Methoden韦尔登u.a. eingesetzt,um neue in Simulationen vorhergesagte,FG-纳米材料zu verifizieren.

项目成果

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Thickness-dependence of the B2–B19 martensitic transformation in nanoscale shape memory alloy thin films: Zero-hysteresis in 75 nm thick Ti51Ni38Cu11 thin films
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  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    9.4
  • 作者:
    D. König;P. J. Buenconsejo;Dario Grochla;S. Hamann;J. Pfetzing‐Micklich;A. Ludwig
  • 通讯作者:
    D. König;P. J. Buenconsejo;Dario Grochla;S. Hamann;J. Pfetzing‐Micklich;A. Ludwig
X‐Ray Photoelectron Spectroscopy Investigations of the Surface Reaction Layer and its Effects on the Transformation Properties of Nanoscale Ti51Ni38Cu11 Shape Memory Thin Films
X射线光电子能谱研究表面反应层及其对纳米Ti51Ni38Cu11形状记忆薄膜相变性能的影响
  • DOI:
    10.1002/adem.201400317
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.6
  • 作者:
    D. König;D. Naujoks;T. de los Arcos;S. Grosse-Kreul;A. Ludwig
  • 通讯作者:
    A. Ludwig
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