Messverfahren zur In-Prozess-Charakterisierung optisch erzeugter Sub-100-nm-Strukturen

光学生成的亚 100 nm 结构的过程表征测量方法

• 批准号: 80176971
• 负责人: Professor Dr.-Ing. Gert Goch
• 金额: --
• 依托单位: Bremer Institut für Messtechnik, Automatisierung und Qualitätswissenschaft (BIMAQ)
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Priority Programmes
• 财政年份: 2009
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2008-12-31 至 2012-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/80176971?language=en
• 关键词: Messverfahren; zur; Prozess; Charakterisierung; optisch

Es soll das erfolgreiche Konzept der Entwicklung von In-Prozess- Messverfahren für Sub-1 OO-nm-Strukturen auf Basis von rigorosen Streulicht-Simulationen fortgeführt werden. Neben der Weiterentwicklung der Simulations- und Auswerteverfahren liegt das Hauptaugenmerk nun auf der praktischen Applikation der Messverfahren bei verschiedenen Partnern innerhalb und außerhalb des Schwerpunktprogramms. Um vom breiten Spektrum der Anwendungen ausgehend zu einer allgemein gültigen Entwicklungs-Methodik für Streulicht- Messverfahren zu gelangen, wird diese Aufgabe in mehreren Stufen umgesetzt. In vielen technischen Anwendungen (z.B. plasmonische Schichten oder ZnO-LEDs) bedecken Nanostrukturen statistisch und homogen verteilt die gesamte Oberfläche. Zu detektierende Prozessabweichungen in Bezug auf diese Nanostrukturen wirken sich auf das gesamte Streulichtmuster aus und sind daher mit einer überschaubaren Anzahl von Simulationen zu identifizieren sowie messtechnisch nachzuweisen. Betreffen statistische Abweichungen jedoch nur Teilbereiche der Oberfläche, wie z.B. in der Medizintechnik bei biokompatiblen Oberflächenbeschichtungen, so interessiert meist die Homogenität der Bedeckungsdichte. Hier sind hauptsächlich messtechnische Herausforderungen zu erwarten. Deterministische Strukturabweichungen hingegen können sich in beliebigen begrenzten Bereichen der Streulichtverteilung ausprägen. Um diese Effekte zu erkennen, ist einerseits eine erheblich größere Anzahl von Simulationen erforderlich. Andererseits müssen neue digitale Bild auswerteverfahren entwickelt werden.

这是 Sub-1 OO-nm-Strukturen 的 In-Prozess Messverfahren 的完整概念，是严格的 Streulicht-Simulationen fortgeführt werden 的基础。 Neben der Weiterentwicklung der 模拟和 Auswerteverfahren liegt das Hauptaugenmerk nun der 实际应用程序 der Messverfahren bei verschiedenen 合作伙伴内部和 außerhalb des Schwerpunkt 程序。 um vom breiten Spektrum der Anwendungen ausgehend zu einer allgemein gültigen Entwicklungs-Methodik für Streulicht- Messverfahren zu gelangen, wird diese Aufgabe in mehreren Stufen umgesetzt.在 vielen technischen Anwendungen (z.B. plasmonische Schichten oder ZnO-LEDs) 中，纳米结构统计和同质垂直模具 gesamte Oberfläche。纳米结构设计中的技术过程是在整个结构中进行的，并且在模拟过程中进行了识别，从而使机械制造变得更加复杂。 Betreffen statisticische Abweichungen jedoch nur Teilbereiche der Oberfläche，wie z.B.在 der Medizintechnik bei biokompatiblen Oberflächenbeschichtungen 中，因此对 Bedeckungsdichte 的 Homogenität 感兴趣。这是重要的机械设备。确定性结构的确定性取决于结构的确定性。嗯，这个效果，就是模拟的最佳效果。 Andererseits müssen neue digitale Bild auswerteverfahren entwickelt werden。

项目成果

In Situ Power Analysis of General Purpose Graphical Processing Units

• DOI: 10.1109/pdp.2011.67
• 发表时间: 2011-02
• 期刊: 2011 19th International Euromicro Conference on Parallel, Distributed and Network-Based Processing
• 作者: Mohammed Zubair Mohammed Shamim (Shaikh)-Mohammed-Zubair-Mohammed-Shamim-(Shaikh)-144728884;M. Gregoire;W. Li;M. Wróblewski;S. Simon

In-process optical characterization method for sub-100-nm nanostructures

亚 100 nm 纳米结构的过程中光学表征方法

• DOI: 10.1109/imtc.2011.5944117
• 发表时间: 2011
• 期刊: 2011 IEEE International Instrumentation and Measurement Technology Conference
• 作者: Shaikh;Grégoire;Bringewat;Tausendfreund;Zimmermann
• 通讯作者: Zimmermann

On the estimation of numerical error bounds in linear algebra based on discrete stochastic arithmetic

基于离散随机算法的线性代数数值误差界估计

• DOI: 10.1016/j.apnum.2012.01.001
• 发表时间: 2012
• 期刊: Applied Numerical Mathematics
• 影响因子: 2.8

On the numerical sensitivity of computer simulations on hybrid and parallel computing systems

关于混合和并行计算系统的计算机模拟的数值敏感性

• DOI: 10.1109/hpcsim.2011.5999868
• 发表时间: 2011
• 期刊: 2011 International Conference on High Performance Computing & Simulation

In-process measuring procedure for sub-100 nm structures

• DOI: 10.2351/1.4719936
• 发表时间: 2012-07
• 期刊: Journal of Laser Applications
• 影响因子: 2.1
• 作者: M. Zimmermann;A. Tausendfreund;S. Patzelt;G. Goch;S. Kieß;M. Z. Shaikh;M. Gregoire;S. Simon