Development of thin film preparation process by back-surface irradiation PLD method using powder targets
Development of thin film preparation process by back-surface irradiation PLD method using powder targets
使用粉末靶材的背面照射PLD法薄膜制备工艺的开发
批准号：
26390099
负责人：
Suda Yoshiaki
金额：
$3.24万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2014-04-01 至 2017-03-31
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Preparation of tris(8-hydroxyquinolinato)aluminium thin films by sputtering deposition using powder and powder pressed targets
使用粉末和粉末压制靶溅射沉积制备三(8-羟基喹啉)铝薄膜
使用粉末和粉末压制靶溅射沉积制备三(8-羟基喹啉)铝薄膜
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys. （JJAP Special Issue of DPS）
影响因子：
--
作者：
[Hiroharu Kawasaki, Tamiko Ohshima, Yoshihito Yagyu, Takeshi Ihara, Rei Tanaka, Yoshiaki Suda]
通讯作者：
Yoshiaki Suda
Nanosecond Pulsed Microplasmas with Vertically Arranged Carbon Nanotube Electrodes for Non-Thermal Plasma Applications
用于非热等离子体应用的具有垂直排列碳纳米管电极的纳秒脉冲微等离子体
用于非热等离子体应用的具有垂直排列碳纳米管电极的纳秒脉冲微等离子体
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Takeshi Ihara, Yoshihito Yagyu, Tamiko Ohshima, Hiroharu Kawasaki, Yoshiaki Suda]
通讯作者：
Yoshiaki Suda
Preparation of functional thin films by pulsed laser deposition method using a metal powder target
金属粉末靶材脉冲激光沉积法制备功能薄膜
金属粉末靶材脉冲激光沉积法制备功能薄膜
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Hiroharu Kawasaki, Tamiko Ohshima, Takeshi Ihara, Yoshihito Yagyu, Yoshiaki Suda]
通讯作者：
Yoshiaki Suda
DOI：
--
发表时间：
2015-10
期刊：
Bulletin of the American Physical Society
影响因子：
--
作者：
[Y. Suda;Hiroharu Kawasaki;T. Ohshima;Y. Yagyu;T. Ihara;M. Yamauchi]
通讯作者：
Y. Suda;Hiroharu Kawasaki;T. Ohshima;Y. Yagyu;T. Ihara;M. Yamauchi
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Tamiko Ohshima, Takashi Maeda, Yuki Tanaka, Hiroharu Kawasaki, Yoshihito Yagyu, Takeshi Ihara, Yoshiaki Suda]
通讯作者：
Yoshiaki Suda
共 25 条
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