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Electron Beam Lithography Dissolution Mechanisms

电子束光刻溶解机制

基本信息

批准号：
429540-2012
负责人：
Olsen, Trevor
金额：
$ 0.33万
依托单位：
University of Alberta
依托单位国家：
加拿大
项目类别：
University Undergraduate Student Research Awards
财政年份：
2012
资助国家：
加拿大
起止时间：
2012-01-01 至 2013-12-31
项目状态：
已结题

来源：
https://www.nserc-crsng.gc.ca/ase-oro/Details-Detailles_eng.asp?id=516200
关键词：
Electron Beam Lithography Dissolution Mechanisms

项目摘要

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项目成果

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数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

DOI：
{{ item.doi }}
发表时间：
{{ item.publish_year }}
期刊：
{{ item.journal_name }}
影响因子：
{{ item.factor }}
作者：
{{ item.authors }}
通讯作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

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{{ item.author }}

数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}

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{{ item.author }}

数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}

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通讯作者：
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{{ item.publish_year }}
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{{ item.factor }}
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通讯作者：
{{ item.author }}

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