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Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Copper Metal

Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Copper Metal
铜金属的等离子体增强原子层沉积
批准号:
489590-2016
负责人:
Koponen, Sara
金额:
$2.55万
依托单位:
依托单位国家:
加拿大
项目类别:
Alexander Graham Bell Canada Graduate Scholarships - Doctoral
财政年份:
2016
资助国家:
加拿大
项目状态:
已结题
起止时间:
2016-01-01 至 2017-12-31

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Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Copper Metal
  • 批准号:
    489590-2016
  • 项目类别:
    Alexander Graham Bell Canada Graduate Scholarships - Doctoral
  • 资助金额:
    $2.55万
  • 财政年份:
    2018
  • 负责人:
    Koponen, Sara
  • 依托单位:
Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Copper Metal
  • 批准号:
    489590-2016
  • 项目类别:
    Alexander Graham Bell Canada Graduate Scholarships - Doctoral
  • 资助金额:
    $2.55万
  • 财政年份:
    2017
  • 负责人:
    Koponen, Sara
  • 依托单位:
In Situ Optical Monitoring of Chemical Vapour Deposited Ultrathin Plasmonic Gold Films
  • 批准号:
    465448-2014
  • 项目类别:
    Alexander Graham Bell Canada Graduate Scholarships - Master's
  • 资助金额:
    $1.27万
  • 财政年份:
    2014
  • 负责人:
    Koponen, Sara
  • 依托单位:
Aptamer-based mycotoxin detection
  • 批准号:
    450932-2013
  • 项目类别:
    University Undergraduate Student Research Awards
  • 资助金额:
    $0.33万
  • 财政年份:
    2013
  • 负责人:
    Koponen, Sara
  • 依托单位:
海外基金