Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Copper Metal
铜金属的等离子体增强原子层沉积
基本信息
- 批准号:489590-2016
- 负责人:
- 金额:$ 2.55万
- 依托单位:
- 依托单位国家:加拿大
- 项目类别:Alexander Graham Bell Canada Graduate Scholarships - Doctoral
- 财政年份:2018
- 资助国家:加拿大
- 起止时间:2018-01-01 至 2019-12-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Atomic layer deposition, Chemical vapour deposition, Precursor design, Inorganic synthesis, Thermogravimetric analysis, Metallic thin films, Copper
原子层沉积,化学气相沉积,前驱体设计,无机合成,热重分析,金属薄膜,铜
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
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