Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Copper Metal

铜金属的等离子体增强原子层沉积

基本信息

  • 批准号:
    489590-2016
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.55万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    加拿大
  • 项目类别:
    Alexander Graham Bell Canada Graduate Scholarships - Doctoral
  • 财政年份:
    2017
  • 资助国家:
    加拿大
  • 起止时间:
    2017-01-01 至 2018-12-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

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