课题基金 / 基金详情

DAMAGELESS ETCHING PROCESSES

DAMAGELESS ETCHING PROCESSES
无损蚀刻工艺
批准号:
RGPIN-2016-03691
负责人:
Darnon, Maxime
金额:
$2.26万
依托单位:
依托单位国家:
加拿大
项目类别:
Discovery Grants Program - Individual
财政年份:
2017
资助国家:
加拿大
项目状态:
已结题
起止时间:
2017-01-01 至 2018-12-31

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
微纳加工中的等离子体刻蚀是各种材料精确构图所必需的。然而,它也会在刻蚀材料的表面引起损伤。这些修改对设备属性的确切影响尚不完全清楚。
英文摘要
Plasma etching used in micro and nano fabrication is required for precise patterning of various materials. However, it also induces damage at the surface of the etched materials. The exact impact of these modifications on devices properties is not fully understood yet.
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DAMAGELESS ETCHING PROCESSES
  • 批准号:
    RGPIN-2016-03691
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额:
    $1.67万
  • 财政年份:
    2022
  • 负责人:
    Darnon, Maxime
  • 依托单位:
High voltage photo transducers
  • 批准号:
    567013-2021
  • 项目类别:
    Alliance Grants
  • 资助金额:
    $2.62万
  • 财政年份:
    2021
  • 负责人:
    Darnon, Maxime
  • 依托单位:
DAMAGELESS ETCHING PROCESSES
  • 批准号:
    RGPIN-2016-03691
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额:
    $2.26万
  • 财政年份:
    2021
  • 负责人:
    Darnon, Maxime
  • 依托单位:
Etude et développement d'une solution à faible empreinte carbone pour les stations de télécommunication (SAFE TELECOM)
  • 批准号:
    558371-2020
  • 项目类别:
    Alliance Grants
  • 资助金额:
    $2.32万
  • 财政年份:
    2021
  • 负责人:
    Darnon, Maxime
  • 依托单位:
海外基金