Plasmaätzanlage

等离子蚀刻系统

• 批准号: 204058942
• 金额: --
• 依托单位: Ruhr-Universität Bochum
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Major Research Instrumentation
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2010-12-31 至 无数据
• 项目状态: 未结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/204058942?language=en
• 关键词: Plasma; tzanlage

„Die Forschung des Lehrstuhls im Bereich der Optoelektronik und Photonik erfordert Halbleiterproben, die in ganz bestimmter Weise gewachsen und prozessiert werden müssen. Derzeit ist der Lehrstuhl komplett auf Probenzulieferungen durch Kooperationspartner angewiesen. Insbesondere die Proben-prozessierung war dadurch in der Vergangenheit durch die notwendige Einbeziehung externer Koope-rationspartner mit erheblichem zeitlichem Aufwand und häufig mit technischen Komplikationen ver-bunden und hat dadurch den Projektfortschritt erheblich verzögert.Mit diesem Antrag soll die Möglichkeit geschaffen werden, III-V- Halbleiterproben, d.h. insbesondere neue optoelektronische Bauelementkonzepte, nach speziellen eigenen Bedürfnissen zu prozessieren, indem die beantragte Plasmaätzanlage in einen gemeinsam mit dem Lehrstuhl für Werkstoffe und Nanoelektronik genutzten, im Rahmen der Renovierung der Ruhr-Universität gerade neu eingerichteten, Reinraumbereich eingebracht wird.“

“Die Forschung des Lehrstuhls im Bereich der Optoelektronik und Photonik erfordert Halbleiterproben，die in ganz bestimmter Weise gewachsen und prozessiert韦尔登müssen.目前，通过合作伙伴的合作，Lehrstuhl公司完成了产品开发。在本项目中，通过采用先进的技术和先进的工艺，使非常规的外部Koope-rationspartner能够完成项目的开发，并使其成为一个非常重要的项目。在新的光电元件制造工艺中，采用了特殊的工艺，在一个由Lehrstuhl für Werkstoffe和Nanoelektronik genutzten组成的联合体中使用了等离子体，在鲁尔大学的Renovierung gerade neu eingerichteten中，Reinraumbereich eingebracht wird。“