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Plasmaätzanlage

Plasmaätzanlage
等离子蚀刻系统
批准号:
204058942
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位:
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2011
资助国家:
德国
项目状态:
未结题
起止时间:
2010-12-31 至 --
关键词:

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
“光电研究与光电研究”,德国,德国,德国,德国,德国。Derzeit ist der Lehrstuhl komplett auf Probenzulieferungen(合作伙伴)inbesonere die Proben-prozessierung war dadurch in der Vergangenheit durch die not endige Einbeziehung externer kope - rationpartner mit erheblichem zeitlichem Aufwand und häufig mit technischen Komplikationen verbunden and the dadurch den Projektfortschritt erheblich verzögert。3 - v - Halbleiterproben, d.h.d esonderneue光电器件与光电器件之间的关系,nach speziellen eigenen bedrnnissen zu prozessien, indem die beantragte Plasmaätzanlage in einen gemeinsam mitdem Lehrstuhl f<e:1>与纳米电子器件之间的关系,im Rahmen der Renovierung der Ruhr-Universität gerade neingerichteten, Reinraumbereich eingebracht wind。”
英文摘要
„Die Forschung des Lehrstuhls im Bereich der Optoelektronik und Photonik erfordert Halbleiterproben, die in ganz bestimmter Weise gewachsen und prozessiert werden müssen. Derzeit ist der Lehrstuhl komplett auf Probenzulieferungen durch Kooperationspartner angewiesen. Insbesondere die Proben-prozessierung war dadurch in der Vergangenheit durch die notwendige Einbeziehung externer Koope-rationspartner mit erheblichem zeitlichem Aufwand und häufig mit technischen Komplikationen ver-bunden und hat dadurch den Projektfortschritt erheblich verzögert.Mit diesem Antrag soll die Möglichkeit geschaffen werden, III-V- Halbleiterproben, d.h. insbesondere neue optoelektronische Bauelementkonzepte, nach speziellen eigenen Bedürfnissen zu prozessieren, indem die beantragte Plasmaätzanlage in einen gemeinsam mit dem Lehrstuhl für Werkstoffe und Nanoelektronik genutzten, im Rahmen der Renovierung der Ruhr-Universität gerade neu eingerichteten, Reinraumbereich eingebracht wird.“
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