Plasmaätzanlage mit ICP-Anregung
Plasmaätzanlage mit ICP-Anregung
带 ICP 激励的等离子蚀刻系统
批准号：
189547853
负责人：
金额：
$0.0万
依托单位国家：
德国
项目类别：
Major Research Instrumentation
财政年份：
2010
资助国家：
德国
项目状态：
未结题
起止时间：
2009-12-31 至 --
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DOI：
10.1364/oe.21.011585
发表时间：
2013-05
期刊：
Optics express
影响因子：
3.8
作者：
[C. Xie;P. Dong;P. Winzer;C. Gréus;M. Ortsiefer;C. Neumeyr;S. Spiga;M. Müller;M. Amann]
通讯作者：
C. Xie;P. Dong;P. Winzer;C. Gréus;M. Ortsiefer;C. Neumeyr;S. Spiga;M. Müller;M. Amann
DOI：
10.1109/jstqe.2013.2247572
发表时间：
2013-02
期刊：
IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics
影响因子：
4.9
作者：
[S. Sprengel;C. Grasse;Peter Wiecha;A. Andrejew;T. Gruendl;G. Boehm;Ralf Meyer;Markus-Christian Amann]
通讯作者：
S. Sprengel;C. Grasse;Peter Wiecha;A. Andrejew;T. Gruendl;G. Boehm;Ralf Meyer;Markus-Christian Amann
DOI：
10.1103/physrevb.90.115310
发表时间：
2014-09-24
期刊：
PHYSICAL REVIEW B
影响因子：
3.7
作者：
[Reichert, T., Lichtmannecker, S., Finley, J. J.]
通讯作者：
Finley, J. J.
DOI：
10.1038/ncomms3021
发表时间：
2013-06-01
期刊：
NATURE COMMUNICATIONS
影响因子：
16.6
作者：
[Vijayraghavan, Karun, Jiang, Yifan, Belkin, Mikhail A.]
通讯作者：
Belkin, Mikhail A.
DOI：
10.1063/1.4729042
发表时间：
2012-06
期刊：
Applied Physics Letters
影响因子：
4
作者：
[K. Vijayraghavan;R. W. Adams;A. Vizbaras;M. Jang;C. Grasse;G. Boehm;M. Amann;M. Belkin]
通讯作者：
K. Vijayraghavan;R. W. Adams;A. Vizbaras;M. Jang;C. Grasse;G. Boehm;M. Amann;M. Belkin
共 7 条
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