课题基金 / 基金详情

ICP-Ätzanlage

ICP-Ätzanlage
ICP蚀刻系统
批准号:
179283563
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位:
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2010
资助国家:
德国
项目状态:
未结题
起止时间:
2009-12-31 至 --
关键词:

项目摘要

项目成果

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
„Die ICP-Ätzanlage ist für die Strukturierung nanoskaliger photonischer Bauelemente auf der Basis von III/V- und II/VI-Halbleitern zwingend notwendig. Das steilflankige Ätzen dieser Materialien erfordert den Einsatz von Ätzgasen auf Basis von Cl, Br und Methan. Die hohen Anforderungen an die Qualität der geätzten Strukturen (geringe Oberflächenrauhigkeit, geringe Schädigungen der Kristallstruktur), sowie häufig ein hohes Aspektverhältnis können nur mit einer Ätzanlage erfüllt werden, die mit einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle ausgestattet ist. Weitere Anwendungen der Anlage bestehen im Bereich der Mikro- und Nanostrukturierung von Perovskitmaterialien.“
期刊论文(10)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI: 10.1038/nphoton.2016.70
发表时间: 2016-06-01
期刊: NATURE PHOTONICS
影响因子: 35
作者: [Pyatkov, Felix, Fuetterling, Valentin, Pernice, Wolfram H. P.]
通讯作者: Pernice, Wolfram H. P.
DOI: 10.1038/ncomms2710
发表时间: 2013-04-01
期刊: NATURE COMMUNICATIONS
影响因子: 16.6
作者: [Rath, Patrik, Khasminskaya, Svetlana, Pernice, Wolfram H. P.]
通讯作者: Pernice, Wolfram H. P.
DOI: 10.1002/pmic.201200393
发表时间: 2013-01-01
期刊: PROTEOMICS
影响因子: 3.4
作者: [Osterman, Ilya A., Ustinov, Alexey V., Dontsova, Olga A.]
通讯作者: Dontsova, Olga A.
DOI: 10.1103/physrevb.91.054523
发表时间: 2015-02-26
期刊: PHYSICAL REVIEW B
影响因子: 3.7
作者: [Braumueller, Jochen, Cramer, Joel, Weides, Martin]
通讯作者: Weides, Martin
7
    海外基金