Control of conductivity of mixed anion compounds through distortion of coordination and their device application

通过配位畸变控制混合阴离子化合物的电导率及其器件应用

基本信息

  • 批准号:
    21H01795
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 11.32万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2021
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2021-04-01 至 2024-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究では、遷移金属酸フッ化物を用いた抵抗変化メモリ素子(ReRAM)の提案を目的としている。イオン伝導には構成元素や空孔の配列が影響を及ぼすことが知られている。そこで、異方性を制御した層状ベロブスカイト型GdBaCo2O5.5(GBCO)薄膜の合成を行った。GBCOはc軸方向のGd/Ba配列に加え、b軸方向に八面体CoO6/ピラミッドCoO5の配列を有し、いずれもイオン伝導に影響を及ぼす可能性がある。様々な基板上にGBCO膜をパルスレーザー蒸着(PLD)法により作製し、配列の制御を試みた。その結果、基板の格子定数や面方位に応じてGd/BaおよびCoO6/CoO5配列を制御できることを見出した。特にSrTiO3(001)上の薄膜では、面直方向にGd/Baのみが配列し、CoO6/CoO5配列は観測されなかった。結晶系も本来の斜方晶から正方晶へと変化した。同様に、LaSrGaO4(001)上ではCoO6/CoO5のみが面直方向に配列し、Gd/Ba配列は消失した。また、NdGaO3(110)およびLaSrAlO4(001)上の薄膜では、CoO6/CoO5配列の方向を制御できることが判明した。これらの結果は、イオン伝導の異方性制御に向けた第一歩となる。続いて、アモルファスZnOxSy薄膜のPLD成膜を行った。ZnOおよびZnSターゲットを交互にアブレートすることにより、0 < y/(x+y) < 1の幅広い範囲で組成を制御することができた。そのうち、~0.30 < y/(x+y) < 0.35の薄膜は金属的な電導性を示した。キャリア濃度は10^16 cm-3台から10^19 cm-3であり、移動度は15 cm2V-1s-1に達した。
The purpose of this study is to propose a project to resist the modification of ammonium ions (ReRAM) using migrating metal acid fluoride compounds. The elements of the イオン伝には composition are the influence of the arrangement of the holes and the ぼすことが知られている. Synthesis of そこで, anisotropic をしたlayered ベロブスカイト type GdBaCo2O5.5 (GBCO) thin film. GBCO has a Gd/Ba arrangement in the c-axis direction and an octahedral CoO6/Ba arrangement in the b-axis direction. The alignment and possibility of Mizuno CoO5 are as follows: The GBCO film on the 様々な substrate was fabricated using the PLD method and the array was tested. As a result, the substrate's lattice fixed number and surface orientation are determined by the Gd/BaおよびCoO6/CoO5 arrangement. Special features include thin film on SrTiO3 (001), alignment of Gd/Ba in the vertical direction, and alignment of CoO6/CoO5. The crystal system is originally an orthorhombic crystal, a tetragonal crystal, and a modified one. On LaSrGaO4(001), CoO6/CoO5 is aligned in the straight direction, and Gd/Ba alignment disappears. The direction of the thin film on NdGaO3 (110) and LaSrAlO4 (001) and the arrangement of CoO6/CoO5 are clearly controlled. The result of これらのは, the イオン伝guide's heterosexual control にoriented けたfirst step となる.続いて、アモルファスZnOxSy thin film PLD film forming を行った. ZnOおよびZnSターゲットをinteractionにアブレートすることにより、0 < y/(x+y) < 1 piece of 広い法囲で consists of することができた.そのうち、~0.30 < y/(x+y) < 0.35の thin film and metal な conductivity な し た. The concentration of キャリア is 10^16 cm-3, the unit is 10^19 cm-3, and the mobility is 15 cm2V-1s-1.

项目成果

期刊论文数量(2)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Topochemical Fluorination and Electric Conductivity of Perovskite Nickelate Epitaxial Thin Films
钙钛矿镍酸盐外延薄膜的拓扑化学氟化和电导率
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Sasaki Yui;Lyu Xiaojun;Tang Wei;Wu Hao;Minami Tsuyoshi;佐久間翔梧,野島勉;Tetsuya Hasegawa
  • 通讯作者:
    Tetsuya Hasegawa
Ionic Order Engineering in Double-Perovskite Cobaltite
双钙钛矿钴矿的离子有序工程
  • DOI:
    10.1021/acs.chemmater.1c01228
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    8.6
  • 作者:
    Katayama Tsukasa;Chikamatsu Akira;Zhang Yujun;Yasui Shintaro;Wadati Hiroki;Hasegawa Tetsuya
  • 通讯作者:
    Hasegawa Tetsuya
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

長谷川 哲也其他文献

トポタクティックフッ素ドープによるCa2RuO4薄膜の物性変調
氟拓扑掺杂对Ca2RuO4薄膜物理性能的调控
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    福間 翔太;近松 彰;片山 司;長谷川 哲也
  • 通讯作者:
    長谷川 哲也
EuNbO3-xNx薄膜における負の磁気抵抗効果
EuNbO3-xNx 薄膜中的负磁阻效应
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    丸山 敬裕;近松 彰;廣瀬 靖;片山 司;長谷川 哲也
  • 通讯作者:
    長谷川 哲也
2段階スパッタ法による透明導電性NbドープTiO_2多結晶薄膜の作製
两步溅射法制备透明导电掺铌TiO_2多晶薄膜
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    山田 直臣;笠井 淳平;一杉 太郎;ホアン ゴクラン フン;中尾 祥一郎;廣瀬 靖;古林 寛;島田 敏広;長谷川 哲也
  • 通讯作者:
    長谷川 哲也
非晶質Nb:TiO_2の成膜時酸素分圧とアニール後の電気伝導性の相関
非晶Nb:TiO_2成膜时氧分压与退火后电导率的相关性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    中尾 祥一郎;一杉 太郎;山田 直臣;古林 寛;廣瀬 靖;島田 敏宏;長谷川 哲也
  • 通讯作者:
    長谷川 哲也
動画を用いたプログラミング自学自習の試み
尝试使用视频自学编程
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    川村 光 ;長谷川 哲也;中村 瑛仁;岡林典子・佐野仁美;岡林典子・坂井康子・上木美佳;坂井康子・岡林典子;坂井康子・岡林典子;岡林典子・佐野仁美・坂井康子・南夏世;岡林典子・佐野仁美;岡林典子;清道亜都子;岡林典子・坂井康子・佐野仁美・南夏世;宮里智恵;清道亜都子;岡林典子・坂井康子・南夏世・佐野仁美;宮里智恵・髙橋均・森川敦子;岡林典子;清道亜都子;宮里智恵;下郡啓夫,伊藤恵,大場みち子;伊藤恵,椿本弥生;大場みち子,伊藤恵,下郡啓夫,薦田憲久;大場みち子,伊藤恵,下郡啓夫;下郡啓夫,木元利歩,倉山めぐみ,大場みち子,伊藤恵;下郡啓夫,大場みち子,伊藤恵;伊藤恵,杉本識吏,大場みち子,下郡啓夫
  • 通讯作者:
    伊藤恵,杉本識吏,大場みち子,下郡啓夫

長谷川 哲也的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('長谷川 哲也', 18)}}的其他基金

Empirical Research on Regional Disparities in "Resources" and "Use" of Public Libraries
公共图书馆“资源”与“使用”地区差异实证研究
  • 批准号:
    22K02363
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
局所相分離を利用した光・磁性変換
使用局部相分离的光/磁转换
  • 批准号:
    18655052
  • 财政年份:
    2006
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
微小磁気プローブを用いた磁性半導体の磁区構造解明
使用微磁探针阐明磁性半导体的磁畴结构
  • 批准号:
    16031205
  • 财政年份:
    2004
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
微小磁気プローブを用いた磁性半導体の磁区構造解明
使用微磁探针阐明磁性半导体的磁畴结构
  • 批准号:
    15034207
  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
マンガン酸化物のナノスピン分極計測
氧化锰的纳米自旋偏振测量
  • 批准号:
    14038218
  • 财政年份:
    2002
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
銅酸化物粒界接合界面における局所電子・磁気特性の評価
氧化铜晶界结界面局部电子和磁性的评估
  • 批准号:
    12016203
  • 财政年份:
    2000
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
銅酸化物粒界接合界面における局所電子・磁気特性の評価
氧化铜晶界结界面局部电子和磁性的评估
  • 批准号:
    11129205
  • 财政年份:
    1999
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
銅酸化物粒界接合界面における局所電子・磁気特性の評価
氧化铜晶界结界面局部电子和磁性的评估
  • 批准号:
    10142203
  • 财政年份:
    1998
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
原子種の識別可能なSTM装置の開発
开发可识别原子种类的STM装置
  • 批准号:
    06555182
  • 财政年份:
    1994
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (B)
酸化物超伝導体表面の局所トンネルスペクトロスコピ-
氧化物超导体表面的局域隧道光谱
  • 批准号:
    03210211
  • 财政年份:
    1991
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas

相似国自然基金

面向ReRAM模拟存内计算的软硬件协同搜索方法及影响机理研究
  • 批准号:
    62306291
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
高能效全数字式ReRAM存内计算芯片关键技术
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2022
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
基于ReRAM的高性能混合精度神经网络研究
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2021
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
金属氧化物ReRAM的稳定性和可靠性研究
  • 批准号:
    61072015
  • 批准年份:
    2010
  • 资助金额:
    38.0 万元
  • 项目类别:
    面上项目

相似海外基金

Collaborative Research: SHF: Small: RUI: CMOS+X: Honey-ReRAM Enabled 3D Neuromorphic Accelerator
合作研究:SHF:小型:RUI:CMOS X:Honey-ReRAM 支持的 3D 神经形态加速器
  • 批准号:
    2247343
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Standard Grant
Collaborative Research: SHF: Small: RUI: CMOS+X: Honey-ReRAM Enabled 3D Neuromorphic Accelerator
合作研究:SHF:小型:RUI:CMOS X:Honey-ReRAM 支持的 3D 神经形态加速器
  • 批准号:
    2247342
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Standard Grant
FuSe-TG: Domain-Specific 3D ReRAM-based Processing-in-Memory Accelerators for Streaming Time Series Applications
FuSe-TG:用于流时间序列应用的特定领域的基于 3D ReRAM 的内存处理加速器
  • 批准号:
    2235398
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Standard Grant
Modeling of Stochastic Behavior of ReRAM Devices for Neuromorphic Applications
用于神经形态应用的 ReRAM 器件随机行为建模
  • 批准号:
    21K04186
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
FET: Small: RESONANCE: Accelerating Speech/Language Processing through Collective Training using Commodity ReRAM Chips
FET:小型:共振:使用商用 ReRAM 芯片通过集体训练加速语音/语言处理
  • 批准号:
    1910299
  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Standard Grant
CNS Core: Small: Architecting Secure-by-Design ReRAM-Based Memories
CNS 核心:小型:构建基于 ReRAM 的安全设计存储器
  • 批准号:
    1908471
  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Standard Grant
Nanoscale technology platform for ReRAM and PCM devices (Z04*)
适用于 ReRAM 和 PCM 器件的纳米级技术平台 (Z04*)
  • 批准号:
    426850996
  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Collaborative Research Centres
Study on ReRAM circuit operation using in-situ TEM for development of artificial neurons
使用原位 TEM 研究 ReRAM 电路操作以开发人工神经元
  • 批准号:
    16H04339
  • 财政年份:
    2016
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
SHF: Small: Architectural Support for Reliable ReRAM Crossbar Memory
SHF:小型:对可靠 ReRAM 交叉开关内存的架构支持
  • 批准号:
    1617071
  • 财政年份:
    2016
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Standard Grant
Development of nonvolatile Fe-ReRAM and study on the operation mechanism
非易失性Fe-ReRAM的研制及其工作机理研究
  • 批准号:
    26630126
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 11.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了