Improvement of Thermoelectric Properties in Mg2Si by Strain State Control

通过应变状态控制改善 Mg2Si 的热电性能

基本信息

  • 批准号:
    26630304
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.5万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 财政年份:
    2014
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2014-04-01 至 2016-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(26)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Epitaxial Growth and Photoluminescence Properties of β-FeSi2 Grains Using Liquid Phase Obtained by Au-Si Eutectic Reaction
Au-Si共晶反应液相β-FeSi2晶粒的外延生长及其光致发光性能
  • DOI:
    10.1117/12.2212057
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Mutsuo Uehara;Kensuke Akiyama;Takao Shimizu;Masaaki Matsushima;Hiroshi Uchida;Yoshisato Kimura;and Hiroshi Funakubo;Kensuke Akiyama and Hiroshi Funakubo
  • 通讯作者:
    Kensuke Akiyama and Hiroshi Funakubo
スパッタリング法によるCa-Si膜の作製と熱電特性評価
溅射法制备Ca-Si薄膜及热电性能评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    上原睦雄;新井洋喜;小川正太;秋山賢輔;松島正明;内田寛;木村好里;舟窪浩
  • 通讯作者:
    舟窪浩
シリサイド系半導体の科学と技術(前田佳均 編著)
硅化物半导体科学与技术(前田义俊主编)
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    齋藤彰太;多田翔太朗;名打圭佑;大幸裕介;本多沢雄;岩本雄二;秋山賢輔,末益 崇,舟窪 浩(他12名共著)
  • 通讯作者:
    秋山賢輔,末益 崇,舟窪 浩(他12名共著)
Electrical Properties of (110)-Oriented Nondoped Mg2Si Films with p-Type Conduction Prepared by RF Magnetron Sputtering Method
  • DOI:
    10.1007/s11664-014-3040-6
  • 发表时间:
    2014-02
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.1
  • 作者:
    Shota Ogawa;Atsuo Katagiri;Takao Shimizu;M. Matsushima;K. Akiyama;Y. Kimura;H. Uchida;H. Funakubo
  • 通讯作者:
    Shota Ogawa;Atsuo Katagiri;Takao Shimizu;M. Matsushima;K. Akiyama;Y. Kimura;H. Uchida;H. Funakubo
東京工業大学大学院総合理工学研究科舟窪研究室ホームページ
东京工业大学研究生院交叉科学与工学研究科船久保实验室主页
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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FUNAKUBO Hiroshi其他文献

Lower-temperature processing of potassium niobate films by microwave-assisted hydrothermal deposition technique
微波辅助水热沉积技术低温加工铌酸钾薄膜
  • DOI:
    10.2109/jcersj2.21115
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.1
  • 作者:
    OKURA Masaki;ITO Yoshiharu;SHIRAISHI Takahisa;KIGUCHI Takanori;KONNO Toyohiko J.;FUNAKUBO Hiroshi;UCHIDA Hiroshi
  • 通讯作者:
    UCHIDA Hiroshi

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Investigation of ferroelectric character in Wurtzite ferroelectrics using epitaxial films
使用外延膜研究纤锌矿铁电体的铁电特性
  • 批准号:
    18H01701
  • 财政年份:
    2018
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Discovery of large electro caloric effect using HfO2-based ferroelectric ultra thin films
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  • 批准号:
    16K14380
  • 财政年份:
    2016
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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    15H04121
  • 财政年份:
    2015
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Development of Novel Lead and Alkaline elements-free Piezoelectric Materials Using Tetragonal Bismuth Perovskite Oxide
利用四方钙钛矿氧化物开发新型无铅和碱性元素压电材料
  • 批准号:
    24360271
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Growth of High quality Lead Zirconium Titanate Single-crystalline Films and Their Basic Property
高品质钛酸铅锆单晶薄膜的生长及其基本性能
  • 批准号:
    21360316
  • 财政年份:
    2009
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Effects of strain and temperature on dielectric properties of "size effect free" dielectrics
应变和温度对“无尺寸效应”电介质介电性能的影响
  • 批准号:
    19360294
  • 财政年份:
    2007
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Preparation of Piezoelectric Thin Films with Nano domain Engineering
纳米域工程制备压电薄膜
  • 批准号:
    17360323
  • 财政年份:
    2005
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Preparation of high density memory storage using layer perovskite ferroelectric thin films having nano structure.
使用具有纳米结构的层状钙钛矿铁电薄膜制备高密度存储器。
  • 批准号:
    15360342
  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Development of Environmental-friendly Bi_4Ti_3O_<12>-based Ferroelectric Thin Film
环保型Bi_4Ti_3O_<12>基铁电薄膜的研制
  • 批准号:
    13555170
  • 财政年份:
    2001
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Development of Strain-induced ferroerectlic Thin Films Prepared by MOCVD
MOCVD 制备应变诱导铁电薄膜的研究进展
  • 批准号:
    11555165
  • 财政年份:
    1999
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B).
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