Improvement of Thermoelectric Properties in Mg2Si by Strain State Control
通过应变状态控制改善 Mg2Si 的热电性能
基本信息
- 批准号:26630304
- 负责人:
- 金额:$ 2.5万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
- 财政年份:2014
- 资助国家:日本
- 起止时间:2014-04-01 至 2016-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(26)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Epitaxial Growth and Photoluminescence Properties of β-FeSi2 Grains Using Liquid Phase Obtained by Au-Si Eutectic Reaction
Au-Si共晶反应液相β-FeSi2晶粒的外延生长及其光致发光性能
- DOI:10.1117/12.2212057
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Mutsuo Uehara;Kensuke Akiyama;Takao Shimizu;Masaaki Matsushima;Hiroshi Uchida;Yoshisato Kimura;and Hiroshi Funakubo;Kensuke Akiyama and Hiroshi Funakubo
- 通讯作者:Kensuke Akiyama and Hiroshi Funakubo
スパッタリング法によるCa-Si膜の作製と熱電特性評価
溅射法制备Ca-Si薄膜及热电性能评价
- DOI:
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:上原睦雄;新井洋喜;小川正太;秋山賢輔;松島正明;内田寛;木村好里;舟窪浩
- 通讯作者:舟窪浩
シリサイド系半導体の科学と技術(前田佳均 編著)
硅化物半导体科学与技术(前田义俊主编)
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:齋藤彰太;多田翔太朗;名打圭佑;大幸裕介;本多沢雄;岩本雄二;秋山賢輔,末益 崇,舟窪 浩(他12名共著)
- 通讯作者:秋山賢輔,末益 崇,舟窪 浩(他12名共著)
Electrical Properties of (110)-Oriented Nondoped Mg2Si Films with p-Type Conduction Prepared by RF Magnetron Sputtering Method
- DOI:10.1007/s11664-014-3040-6
- 发表时间:2014-02
- 期刊:
- 影响因子:2.1
- 作者:Shota Ogawa;Atsuo Katagiri;Takao Shimizu;M. Matsushima;K. Akiyama;Y. Kimura;H. Uchida;H. Funakubo
- 通讯作者:Shota Ogawa;Atsuo Katagiri;Takao Shimizu;M. Matsushima;K. Akiyama;Y. Kimura;H. Uchida;H. Funakubo
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FUNAKUBO Hiroshi其他文献
Lower-temperature processing of potassium niobate films by microwave-assisted hydrothermal deposition technique
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UCHIDA Hiroshi
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$ 2.5万 - 项目类别:
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19360294 - 财政年份:2007
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$ 2.5万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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- 批准号:
17360323 - 财政年份:2005
- 资助金额:
$ 2.5万 - 项目类别:
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- 批准号:
15360342 - 财政年份:2003
- 资助金额:
$ 2.5万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Development of Environmental-friendly Bi_4Ti_3O_<12>-based Ferroelectric Thin Film
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- 批准号:
13555170 - 财政年份:2001
- 资助金额:
$ 2.5万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Development of Strain-induced ferroerectlic Thin Films Prepared by MOCVD
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- 批准号:
11555165 - 财政年份:1999
- 资助金额:
$ 2.5万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B).