Effects of strain and temperature on dielectric properties of "size effect free" dielectrics

应变和温度对“无尺寸效应”电介质介电性能的影响

基本信息

  • 批准号:
    19360294
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 13.48万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2007
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2007 至 2008
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

サイズ効果フリー特性を有するSrBi_4Ti_4O_<15>について、誘電特性に及ぼす残留歪と温度の影響を調べた。結晶方位の異なる膜を作製して評価したところ、誘電率の温度依存性には結晶方位依存性が存在し、(001)配向が最も小さな温度依存性を示すことが明らかになった。一方基板からの熱歪の異なる基板上に作製したc軸1軸配向膜でも、比誘電率の温度依存性は小さいことが明らかになった。
サ イ ズ unseen fruit フ リ ー features を have す る SrBi_4Ti_4O_ < 15 > に つ い て, electrical characteristics に and lure ぼ す residual crooked の と temperature influence を べ た. The crystal orientation の different な る membrane を cropping し て review 価 し た と こ ろ, induced electric rate の temperature dependency に は crystal orientation dependence が し, (001) match to the most も が small さ な temperature dependency を shown す こ と が Ming ら か に な っ た. A substrate か ら の hot slanting の different な る substrate に cropping し た c axis 1 axis alignment film で も, smaller than induced electric rate の temperature dependence は さ い こ と が Ming ら か に な っ た.

项目成果

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专著数量(0)
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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Fabrication of conductive oxide polycrystalline BaPbO_3 films by chemical solutio n deposition and their electrical resistivity
化学溶液沉积法制备导电氧化物多晶BaPbO_3薄膜及其电阻率
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    鈴木拓哉;黒田大介;白木原香織;御手洗容子;小野嘉則;香河英史;後藤大亮;永沼博
  • 通讯作者:
    永沼博
Si基板上における(001)高配向性(Ca, Sr)Bi_4Ti_4O_<15>薄膜の作製
Si衬底上(001)高取向(Ca,Sr)Bi_4Ti_4O_<15>薄膜的制备
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    水谷佑樹;内田寛;舟窪浩;幸田清一郎
  • 通讯作者:
    幸田清一郎
Effect of the Annealing Temperature on Dielectric Properties of Bi_<1.5>Zn_<1.0>Nb_<1.5>O_7 Films Prepared by MOCVD
退火温度对MOCVD制备Bi_<1.5>Zn_<1.0>Nb_<1.5>O_7薄膜介电性能的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Hiroshi Funakubo;Shingo Okaura;Muneyau Suzuki;Hiroshi Uchida and Seiichiro Koda
  • 通讯作者:
    Hiroshi Uchida and Seiichiro Koda
Film thickness dependence of the dielectric thin films in c-axis oriented bismuthlayer perovskite materials
c轴取向铋层钙钛矿材料中介电薄膜的膜厚依赖性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H. Funakubo
  • 通讯作者:
    H. Funakubo
Cubic-on-cubic growth of a MgO(001) thin film prepared on Si(001) substrate at low ambient pressure by the sputtering method
  • DOI:
    10.1209/0295-5075/81/46001
  • 发表时间:
    2008-01-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.8
  • 作者:
    Kaneko, S.;Funakubo, H.;Akiyama, K.
  • 通讯作者:
    Akiyama, K.
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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  • 通讯作者:
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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
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    {{ item.doi }}
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    {{ item.publish_year }}
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    {{ item.factor }}
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    {{ item.authors }}
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    {{ item.author }}

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    $ 13.48万
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    11555165
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  • 资助金额:
    $ 13.48万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B).

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{{ showInfoDetail.title }}

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知道了