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Investigation of ferroelectric character in Wurtzite ferroelectrics using epitaxial films
使用外延膜研究纤锌矿铁电体的铁电特性
基本信息
- 批准号：18H01701
- 负责人：
- 金额：$ 11.15万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2018
- 资助国家：日本
- 起止时间：2018-04-01 至 2021-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Effects of heat treatment and in-situ high temperature XRD study on the formation of ferroelectric epitaxial Y doped HfO2 film
热处理及原位高温XRD对铁电外延Y掺杂HfO2薄膜形成的影响研究
- DOI：10.7567/1347-4065/aafed1
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Takanori Mimura;Takao Shimizu;Takanori Kiguchi;Akihiro Akama;Toyohiko J. Konno;Yoshio Katsuya;Osami Sakata;and Hiroshi Funakubo
- 通讯作者：and Hiroshi Funakubo
Fabrication of ferroelectric Fe doped HfO2 epitaxial thin films by ion-beam sputtering method and their characterization
- DOI：10.7567/jjap.57.11uf02
- 发表时间：2018-08
- 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：T. Shiraishi;Sujin Choi;T. Kiguchi;Takao Shimizu;H. Uchida;H. Funakubo;T. Konno
- 通讯作者：T. Shiraishi;Sujin Choi;T. Kiguchi;Takao Shimizu;H. Uchida;H. Funakubo;T. Konno
Robust ferroelectricity in thick HfO2-based film
HfO2 基厚膜具有鲁棒的铁电性
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Takao Shimizu;Takanori Mimura;Hiroshi Funakubo
- 通讯作者：Hiroshi Funakubo
Thickness- and orientationdependence of Curie temperature of ferroelectric epitaxial HfO2 based films
铁电外延 HfO2 基薄膜居里温度的厚度和取向依赖性
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：T. Mimura;T. Shimizu;Y. Katsuya;O. Sakata;H. Funakubo
- 通讯作者：H. Funakubo
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15360342 - 财政年份：2003
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- 批准号：
13555170 - 财政年份：2001
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$ 11.15万 - 项目类别：
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希土類複合酸化物における電子強誘電性の電界・光・磁場による分極制御とイメージング
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- 批准号：
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- 资助金额：
$ 11.15万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
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- 批准号：
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22KJ0460 - 财政年份：2023
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$ 11.15万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows