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シリコン単電子デバイスによる単一イオンの動き検出

シリコン単電子デバイスによる単一イオンの動き検出
使用硅单电子器件进行单离子运动检测
批准号:
16656106
负责人:
田部 道晴
金额:
$1.79万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
2004
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2004 至 2006

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
本研究は、電子1個1個のトンネリングを制御したSi単電子デバイスに可動イオンを導入し、電流振動特性の変化から単一イオンの空間的動きを検出することを目的とする。当初はLiを可動イオンとして選択し、SiN膜の対Li拡散阻止能を利用する予定であったが、デバイス作製上困難であり、18年度はバイクリスタルFETと呼ぶ転位網を内包した構造を作製してLiを転位網に偏析させる試みを行った。しかし、XPSで観測した限りでは転位網に特に偏析する徴候は見られなかった。そこで、視点を変えて単電子トランジスタが作製されているSOI基板の下地基板にドーピングしてあるイオンを1個ずつ検出する可能性を探った。そのため、初期条件として全てのB原子が中性となる極低温低電界状態を設定し、その後徐々に垂直電界を印加していき中性B原子がイオン化していくことに伴う単電子トランジスタの電流の時間変化をモニターした。その結果、B原子1個ずつのイオン化を反映して、単電子電流が階段状に変化することを発見した。我々が知る限り、単一イオンの検出は初めてであり、大きな成果と考えている。可動イオンであるLiで実現しなかったが今後につながる成果と思われる。
英文摘要
本研究は、電子1個1個のトンネリングを制御したSi単電子デバイスに可動イオンを導入し、電流振動特性の変化から単一イオンの空間的動きを検出することを目的とする。当初はLiを可動イオンとして選択し、SiN膜の対Li拡散阻止能を利用する予定であったが、デバイス作製上困難であり、18年度はバイクリスタルFETと呼ぶ転位網を内包した構造を作製してLiを転位網に偏析させる試みを行った。しかし、XPSで観測した限りでは転位網に特に偏析する徴候は見られなかった。そこで、視点を変えて単電子トランジスタが作製されているSOI基板の下地基板にドーピングしてあるイオンを1個ずつ検出する可能性を探った。そのため、初期条件として全てのB原子が中性となる極低温低電界状態を設定し、その後徐々に垂直電界を印加していき中性B原子がイオン化していくことに伴う単電子トランジスタの電流の時間変化をモニターした。その結果、B原子1個ずつのイオン化を反映して、単電子電流が階段状に変化することを発見した。我々が知る限り、単一イオンの検出は初めてであり、大きな成果と考えている。可動イオンであるLiで実現しなかったが今後につながる成果と思われる。
期刊论文(28)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Diffusion of Li in the silicon oxide films and evaluation of Li-induced surface potential
Li在氧化硅膜中的扩散以及Li诱导表面电位的评估
DOI: --
发表时间: 2005
期刊: Applied Surface Science (掲載決定)
影响因子: --
作者: [Masahiko Maeda, Teruyoshi Watanabe, Yasuhiro Imai, Yasuhiko Ishikawa, Michiharu Tabe]
通讯作者: Michiharu Tabe
Transition from wire formation to island formation in thermal agglomeration of a (111) silicon-on-insulator layer
(111) 绝缘体上硅层热团聚过程中从线形成到岛形成的转变
DOI: --
发表时间: 2006
期刊: Thin Solid Films 508
影响因子: --
作者: [Zainal A.Burhanudin, Ratno Nuryadi, Yasuhiko Ishikawa, Michiharu Tabe]
通讯作者: Michiharu Tabe
Numerical study of turnstile operation in random-multidotchannel field-effect transistor
随机多点通道场效应晶体管旋转门操作的数值研究
DOI: --
发表时间: 2006
期刊: J. Appl. Phys. Vol.99
影响因子: --
作者: [H. Ikeda, M. Tabe]
通讯作者: M. Tabe
DOI: 10.1063/1.1848185
发表时间: 2005-01
期刊: Applied Physics Letters
影响因子: 4
作者: [Y. Ishikawa;H. Ikeda;M. Tabe]
通讯作者: Y. Ishikawa;H. Ikeda;M. Tabe
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    連結ドットをもつシリコン単電子トランジスタ
    • 批准号:
      03F03041
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额:
      $0.77万
    • 财政年份:
      2003
    • 负责人:
      田部 道晴
    • 依托单位:
    連結ドットをもつシリコン単電子トランジスタ
    • 批准号:
      03F00041
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额:
      $0.77万
    • 财政年份:
      2003
    • 负责人:
      田部 道晴
    • 依托单位:
    Si/SiO_2系高密度量子ドット形成法に関する研究
    • 批准号:
      10127214
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
    • 资助金额:
      $0.96万
    • 财政年份:
      1998
    • 负责人:
      田部 道晴
    • 依托单位:
    Si/SiO_2系高密度量子ドット形成法に関する研究
    • 批准号:
      09233215
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
    • 资助金额:
      $1.47万
    • 财政年份:
      1997
    • 负责人:
      田部 道晴
    • 依托单位:
    海外基金