炭素熱還元反応を利用したカチオンドープ高輝度GaN結晶蛍光体の作製
利用碳热还原反应制备阳离子掺杂高亮度GaN晶体荧光粉
基本信息
- 批准号:18655082
- 负责人:
- 金额:$ 2.24万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
- 财政年份:2006
- 资助国家:日本
- 起止时间:2006 至 2007
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Ga_2O_3とZnOのカーボンによる同時炭素熱還元で生成するGa_2OとZnのガスを結晶成長部へ輸送し、NH_3で窒化することでGaN結晶へのZnイオンのドーピングを試みた。Ga_2O_3とZnOにカーボン粉末を混合したものを、石英ガラス管内で990℃に加熱した。この加熱で発生するGa_2OとZnのガスをArガスで石英管出口まで輸送し、このガス流れに対して向流となるように別の石英ガラス細管からNH_3を導入した。石英ガラス基板を石英管出口付近に置き、1160℃でGaN結晶を成長させた。成長温度1160℃、Zn供給量21at.%で成長させたGaN結晶は、約3μmサイズで六角板状の結晶を示した。XRDの回折強度が高いことから結晶性も高いと判断した。GaN結晶のCL曲線からに約360nmにGaNのバンドギャップに相当するピークが観察され、Znを供給すると420nmのCLピーク強度が増加した。Zn供給量を変化させると(0.4at.%〜8at.%)、GaNのバンドギャツプのCLピーク強度に対して、420nm付近のピーク強度が増加した。また、ICP-AESからZnを供給したGaN結晶中にZnが存在することを確認でき、Zn供給量21at.%の結晶で0.3at.%の亜鉛が結晶中に含まれていることがわかった。以上のことから、Ga_2O_3とZnOをカーボンで還元し、発生するGa_2OとZnをll60℃でNH_3で窒化すると高結晶性で420nmに非常に強い輝度を示すZnドープGaN結晶を作製できた。
Ga_2O_3 と ZnO の カ ー ボ ン に よ る carbon heat at the same time also yuan で す generated る Ga_2O と zinc の ガ ス を crystal growth of へ conveying し, NH_3 で smothering the す る こ と で GaN crystal へ の zinc イ オ ン の ド ー ピ ン グ を try み た. Ga_2O_3 と ZnO に カ ー ボ ン powder mixed を し た も の を, quartz ガ ラ ス tube で 990 ℃ heating に し た. Born こ の heating で 発 す る Ga_2O と zinc の ガ ス を Ar ガ ス で quartz tube export ま で conveying し, こ の ガ ス flow れ に し seaborne て to flow と な る よ う に don't の quartz ガ ラ ス tubule か ら NH_3 を import し た. Quartz ガラス substrate を quartz tube outlet pair close to に を, 1160℃でGaN crystallization を growth させた. Growth temperature 1160 ℃, with recent supply at 21. % で growth さ せ た GaN crystal は, about 3 microns サ イ ズ で hexagonal tabular の crystallization を shown し た. XRD <s:1> fold strength が high <s:1> と と ら ら ら ら crystallinity <s:1> high <s:1> と judgment た た. GaN crystal の CL curve か ら に about 360 nm に GaN の バ ン ド ギ ャ ッ プ に quite す る ピ ー ク が 観 examine さ れ, zinc を supply す る と 420 nm の CL ピ ー ク strength が raised し た. Zinc supply を variations change さ せ る と (0.4 at. % ~ 8 at. %), GaN の バ ン ド ギ ャ ツ プ の CL ピ ー ク strength に し seaborne て, pay nearly 420 nm の ピ ー ク strength が raised し た. ま た, icp-aes か ら zinc を supply し た GaN crystal に in zinc が exist す る こ と を confirm で き, zinc supply 21 at. % の crystallization で at 0.3. % の 亜 lead が crystallization of に ま れ て い る こ と が わ か っ た. Above の こ と か ら, Ga_2O_3 と ZnO を カ ー ボ ン で also born yuan し, 発 す る Ga_2O と zinc を ll60 ℃ で NH_3 で smothering the す る と high crystalline で 420 nm に very strong に い luminance を す in zinc ド ー プ GaN crystal を cropping で き た.
项目成果
期刊论文数量(5)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Vapor phase growth of high-quality GaN single crystals in crucible by carbothermal reduction and nitridation of Ga_2O_3
Ga_2O_3碳热还原氮化气相坩埚生长高质量GaN单晶
- DOI:
- 发表时间:2008
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Akira Miura;Shiro Shimada;Takashi Sekiguchi;Masaaki Yokoyama;Bunsyo Mizobuchi
- 通讯作者:Bunsyo Mizobuchi
Properties and electronic structure of heavily oxygen-doped GaN crystals
重氧掺杂GaN晶体的性质和电子结构
- DOI:
- 发表时间:2008
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:A. Miura;S. Shimada;M. Yokoyama;H;Tachikawa;T. Kitamura
- 通讯作者:T. Kitamura
Synthesis and Characterization of Ge-Doped GaN Crystalline Powders Deposited on Graphite and Silica Glass Substrates
- DOI:10.1021/cg068014p
- 发表时间:2007-05
- 期刊:
- 影响因子:3.8
- 作者:S. Shimada;and Yoko Miura;A. Miura;T. Sekiguchi
- 通讯作者:S. Shimada;and Yoko Miura;A. Miura;T. Sekiguchi
Growth and characterization of millimeter-sized GaN crystals by carbothermal reduction and nitridation of Ga2O3
- DOI:10.1016/j.jcrysgro.2006.10.263
- 发表时间:2007-02
- 期刊:
- 影响因子:1.8
- 作者:A. Miura;S. Shimada;T. Sekiguchi
- 通讯作者:A. Miura;S. Shimada;T. Sekiguchi
Vapor phase growth of GaN crystals with different morphologies and orientation on graphite and sapphire substrates
石墨和蓝宝石衬底上不同形貌和取向的GaN晶体的气相生长
- DOI:
- 发表时间:2006
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:A.Miura;S.Shimada
- 通讯作者:S.Shimada
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
嶋田 志郎其他文献
熱プラズマCVD法によるTiBC,TiBN,SiNx単層膜とTiBC-SiNxとTiBN-SiNx二層膜の作製とその耐摩耗性評価
热等离子体CVD法制备TiBC、TiBN、SiNx单层薄膜和TiBC-SiNx、TiBN-SiNx双层薄膜及其耐磨性评价
- DOI:
- 发表时间:
2007 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
藤 祐輔;嶋田 志郎;清野 肇 - 通讯作者:
清野 肇
嶋田 志郎的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('嶋田 志郎', 18)}}的其他基金
炭素還元窒化法による窒化ガリウムバルク体結晶の成長と特異な発光特性
碳还原氮化法生长氮化镓块状晶体及独特的发光性能
- 批准号:
20655046 - 财政年份:2008
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
プラズマCVDによるTiN-基組成傾斜膜のコーティングと耐腐食性
等离子CVD制备TiN基成分梯度薄膜及其耐蚀性能
- 批准号:
03F03293 - 财政年份:2003
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
プラズマCVDによるTiN基組成傾斜膜のコーティングと耐腐食性
等离子体CVD制备TiN基成分梯度薄膜及其耐蚀性能
- 批准号:
03F00293 - 财政年份:2003
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
ナノサイズTiN被覆Si_3N_4の放電プラズマ焼結と高導電性セラミックスの作製
纳米TiN涂层Si_3N_4的放电等离子烧结及高导陶瓷的制备
- 批准号:
14655326 - 财政年份:2002
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
電解法による新規なTiN-基複合窒化物前駆体の合成と薄膜作製・特性評価
电解法合成新型TiN基复合氮化物前驱体、薄膜制备及性能评价
- 批准号:
12875167 - 财政年份:2000
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
溶融塩反応で作製した組成傾斜BaTiO_3・PbTiO_3系複合粒子の誘電特性
熔盐反应制备成分梯度BaTiO_3/PbTiO_3复合颗粒的介电性能
- 批准号:
09229202 - 财政年份:1997
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
固体の熱分解反応に対するAE法の新しい応用
AE方法在固体热分解反应中的新应用
- 批准号:
02805090 - 财政年份:1990
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
相似国自然基金
基于金刚石高效散热封装的高功率高压GaN器件研发与产业化
- 批准号:
- 批准年份:2025
- 资助金额:0.0 万元
- 项目类别:省市级项目
异质结极化场局域调控机制与选区外延p-GaN HEMT研究
- 批准号:
- 批准年份:2025
- 资助金额:0.0 万元
- 项目类别:省市级项目
复合抗磨涂层仿生微结构化表面自润滑
金刚石砂轮的制备与其磨削单晶GaN基础
研究
- 批准号:
- 批准年份:2025
- 资助金额:10.0 万元
- 项目类别:省市级项目
新型自支撑GaN/二维GaSe范德华异质结垂直结构紫外光电探测器研究
- 批准号:QZQN25F050009
- 批准年份:2025
- 资助金额:0.0 万元
- 项目类别:省市级项目
GaN功率器件动态阈值不稳定诱导退化机理研究
- 批准号:
- 批准年份:2025
- 资助金额:0.0 万元
- 项目类别:省市级项目
面向无人机应用的增强型p-gate
AlGaN/GaN HEMT高功率微波辐射效应及
机理研究
- 批准号:
- 批准年份:2025
- 资助金额:10.0 万元
- 项目类别:省市级项目
GaN基电子器件界面热输运机理研究
- 批准号:2025JJ50045
- 批准年份:2025
- 资助金额:0.0 万元
- 项目类别:省市级项目
免造影剂增强心脏CT技术:深度学习GAN与U-Net架构的融合应用
- 批准号:2025JJ80644
- 批准年份:2025
- 资助金额:0.0 万元
- 项目类别:省市级项目
基于GAN-PSO智能算法的高性能Mg-Mn系变形镁合金设计
- 批准号:
- 批准年份:2025
- 资助金额:0.0 万元
- 项目类别:省市级项目
大尺寸 Si 基 GaN 材料外延及功率器件开发关键技术
- 批准号:
- 批准年份:2025
- 资助金额:0.0 万元
- 项目类别:省市级项目
相似海外基金
パワーデバイス応用に向けたGaNの点欠陥制御および絶縁膜界面制御の第一原理計算
功率器件应用中GaN点缺陷控制和绝缘膜界面控制的第一性原理计算
- 批准号:
24K08270 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Highly integrated GaN power converter to calm the interference
高集成GaN功率转换器,平息干扰
- 批准号:
EP/Y002261/1 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Research Grant
高Al組成GaN-HEMTのドレイン電流伝導機構に関する基礎研究
高Al组分GaN-HEMT漏极电流传导机制的基础研究
- 批准号:
24K07598 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Si基板上GaN縦型パワーデバイスの低抵抗および高耐圧化に関する研究
硅衬底低阻高击穿GaN垂直功率器件研究
- 批准号:
23K26158 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
低損失GaNパワーIC実現に向けた高電圧ストレスによる破壊メカニズムの研究
高压应力击穿机理研究,实现低损耗GaN功率IC
- 批准号:
23K26163 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
高効率かつ高信頼性の縦型GaN接合型電界効果トランジスタの実現
高效可靠垂直GaN结型场效应晶体管的实现
- 批准号:
24KJ1270 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
高性能・高信頼パワーデバイスに向けたGaN MOS界面近傍欠陥の起源解明
阐明高性能、高可靠功率器件中 GaN MOS 界面附近缺陷的来源
- 批准号:
24KJ0142 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
シングルモードマイクロ波を用いたGaNの加熱応答の究明と加熱プロセスの開発
使用单模微波研究 GaN 的加热响应并开发加热工艺
- 批准号:
24K07591 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
トポロジー最適化を用いた縦型GaNパワーデバイスの構造設計技術
采用拓扑优化的垂直GaN功率器件结构设计技术
- 批准号:
24K07597 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.24万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)