低配位ケイ素系有機金属活性分子の開発

低配位硅基有机金属活性分子的研制

• 批准号: 07651065
• 负责人: 大城 芳樹
• 金额: $ 1.28万
• 依托单位: Kinki University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
• 财政年份: 1995
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1995 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-07651065/
• 关键词: 低配位ケイ素; シリレン; トリシラン; トリクロロシラン; ジェミニ型相間移動触媒

イミノ基のα位の炭素上の3置換ケイ素基が,熱により容易にヘテロ原子上に転移し、比較的安定なアゾメチンイリドが発生することを明らかにした。この活性種により複素環骨格合成ルートを開発した。しかし、反応中におけるケイ素の挙動は、反応が非常に速いために確認には至っていない。したがって、低配位ケイ素として働いているかどうかは現時点では断言できない。そこで、直鎖状トリシランの光分解を,低配位ケイ素受容体としてのシクロヘキセンおよびアセトン存在下で検討した。その結果、原料のトリシランの消滅は確認出来たが、生成物から2配位ケイ素であるシリレンの発生を示す確証は得られなかった。もっと活性の高いシリレン受容体を検討中である。一方、イオン的なシリレン発生法として、トリクロロシランの強塩基によるシリレン発生反応を検討した。捕捉剤としてヘテロ原子不飽和化合物を用いたところ、ケイ素の入った環状化合物が生成したが、精密な構造確認には至っていない。ただ、この方法によれば、不安定で寿命の短いものではあるが、低配位ケイ素中間体が生成する可能性を明らかにすることが出来た。次に、新しい低配位ケイ素中間体の発生法を開発する目的で、相関移動反応の適用を考え、2座配位子を持つジェミニの界面活性剤の分子設計を行い、目的とするものの合成にほぼ到達しており、今後このものを用いた反応系の構築を予定している。最後に、1電子酸化に起因する活性中間体の発生法を開発する目的で、キノプロテインモデルに基づくインドールキノン系化合物の分子設計を行い、最終段階を残してほぼ予期した化合物の合成に成功している。今後これによる新しい低配位ケイ素中間体の合成の開発が期待される。

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项目成果

大城芳樹・松嶋健児・菊田博茂: "低配位ケイ素活性種の発生と化学的特性" 日本化学会論文誌. (予定).

Yoshiki Oshiro、Kenji Matsushima 和 Hiroshige Kikuta：“低配位硅活性物质的生成和化学性质”日本化学会会刊（计划中）。