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半導体における光励起プロセスの基礎(総括班)

半导体光激发过程的基础（一般组）

基本信息

批准号：
03239104
负责人：
高橋清
金额：
$ 1.92万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1991
资助国家：
日本
起止时间：
1991 至无数据
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-03239104/
关键词：
光励起プロセス

项目摘要

本研究グル-プは,「半導体における光励起プロセスの基礎」の研究の総括班として,研究全体のまとめを行なった.総括班会議は,第1回平成3年7月25日北海道大学,第2回平成4年1月31日三田出版会にてそれぞれ開催した.本年度は,平成3年7月25日,26日の2日間北海道大学で研究会を開催し,下記に示す班別テ-マに基づき各班4名の班員より研究発表を行なった.A班気相及び表面における反応過程の制御ー反応過程の制御のために気相及び表面で何を制御すればよいかーB班表面におけるどのような光励起過程(励起状態)が表面反応にきいているか?C班膜形成における光の役割ー光の特質をどのように利用するかーD班表面反応の診断また,その他の班員についてはポスタ-による発表を行なった.平成3年12月13日には東京工業大学で公開講演会を開催し,本研究で得られた成果を内外に紹介した.また,本年度の研究成果報告会を三田出版会(大阪)にて,平成4年1月30日,31日の2日間にわたり開催し,本年度の研究で得られた成果についてそれぞれの研究者からの報告があった.なお,この研究成果報告会は公開とし,成果を内外に紹介することとした.それぞれの研究分担者の相互の情報交換として,ニュ-スレタ-を2回出版し,また研究担当者名簿を発行した.

This paper is a summary of the research on "the basis of semiconductor excitation", and a study on the whole process of semiconductor excitation. Hokkaido University, July 25, 2013, and Mita Publishing Conference, January 31, 2014. Hokkaido University Research Conference opened on July 25, 26, 2003 The following is A list of the four members of each shift. The control of the reaction process in the shift A phase and the surface is the control of the reaction process in the shift B phase and the excitation process in the surface. C class film formation in the light of the work cut light characteristics of the use of D class surface reflection diagnosis, and other staff in the work cut light characteristics of the work. On December 13, 2003, a public lecture was held at Tokyo Institute of Technology, and the results of this research were introduced both internally and externally. This year's research results report will be held at the Mita Publishing Conference (Osaka), held on January 30 and 31, 2004. The report on the research results will be made public, and the results will be introduced inside and outside. Information exchange between research partners is conducted on two occasions, and the name list of research directors is published.