Ionen- und plasmagestützte Übertragung dreidimensionaler Strukturen im µm- und Sub-µm-Bereich

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Ausgehend von den bisherigen Arbeiten und Ergebnissen mit maßgeblich grundlegendem Charakter der Anpassung, Weiterentwicklung und Optimierung der Grautonlithographie und des Proportionaltransfers von 3D-Mikrostrukturen vorzugsweise für die Mikrooptik konzentrieren sich die Aufgaben jetzt auf die Lösung erkannter Verfahrensprobleme, die insbesondere die Präzision und Oberflächenrauigkeit der Grautonlithographie und des Ätzübertrages in optische Materialien betreffen Sie zielen auf die Weiterentwicklung, insbesondere auf die Erhöhung der maximal erreichbaren Profiltiefe der Strukturen und die Verringerung ihrer Rauigkeit, um im optischen Sinne präzise Elemente herstellen zu können und damit den Anwendungsbereich der Verfahren zu erweitern. Dazu sind Untersuchungen zur Grautonlithographie mit den auch bisher verwendeten HEBS-Glas-Masken, aber veränderter Spezifikation (Dicke der strahlungssensitiven Schicht) notwendig. Die Entwicklung derartiger komplexer 3D-Mikrostruktur-Proportionaltransfer-Ätzübertragungsprozesse verbindet aufs Engste die präzise Maskenherstellung (FSU) und den wohldefinierten Übertrag in das optische Zielmaterial (IOM). Weiterhin erfolgt eine enge Zusammenarbeit mit dem TP7 bei der Herstellung und Übertragung von (geprägten) refraktiven und diffraktiven 3D-Mikrooptiken zur Integration in Halbleiterlaser sowie mit Teilprojekt TP3 bei der Übertragung geprägter Polymermikrostrukturen in optische Materialien und der Entwicklung der Replikationsmaster mit Hinterschneidungen.