课题基金 / 基金详情

Nanometerpräzise Strukturierung von Festkörpern und dünnen Schichten durch laserinduziertes Vorderseitenätzen

Nanometerpräzise Strukturierung von Festkörpern und dünnen Schichten durch laserinduziertes Vorderseitenätzen
通过激光诱导正面蚀刻实现纳米级精确的固体和薄层结构
批准号:
136302519
负责人:
Dr.-Ing. Klaus Zimmer
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
2010
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
2009-12-31 至 2012-12-31

项目摘要

项目成果

Dr.-Ing. Klaus Zimmer的其他基金

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
Ziel des Vorhabens ist die Untersuchung eines lasergestützten Ätzprozesses zur präzisen Mikrostrukturierung von Festkörpern und Schichten ohne Durchstrahlung des Substrates. Die wesentlichen Zielsetzungen der Grundlagenuntersuchungen umfassen die Ermittlung von Parametereinflüssen auf den Ätzprozess und der erzielbaren Eigenschaften geätzter Festkörper und Schichten, die Bestimmung der abtragsbestimmenden Prozesse des Ätzens, die Messung der Ätzdynamik sowie die Erstellung eines Modells zur Beschreibung des Ätzens. In der anschließenden Phase der Methodenoptimierung werden Fragen des kontinuierlichen Ätzens anwendungsrelevanter Materialien und Schichtsysteme zur nanometertiefengenauen Strukturierung mit einer lateralen Auflösung im Mikrometerbereich adressiert, die für zukünftige Technikanwendungen beispielweise in der Optik von Interesse sind.
期刊论文(5)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Laser-induced front side etching of CaF2 crystals with KrF excimer laser
使用 KrF 准分子激光器对 CaF2 晶体进行激光诱导正面蚀刻
DOI: 10.1016/j.apsusc.2012.11.067
发表时间: 2013
期刊: Applied Surface Science
影响因子: 6.7
作者: [P. Lorenz, M. Ehrhardt, K. Zimmer]
通讯作者: K. Zimmer
Laser‐induced front side etching of fused silica with KrF excimer laser using thin chromium layers
使用薄铬层利用 KrF 准分子激光器对熔融石英进行激光诱导正面蚀刻
DOI: 10.1002/pssa.201127672
发表时间: 2012
期刊: physica status solidi (a)
影响因子: --
作者: [P. Lorenz, M. Ehrhardt, K. Zimmer]
通讯作者: K. Zimmer
Laser-induced fabrication of randomly distributed nanostructures in fused silica surfaces
熔融石英表面随机分布纳米结构的激光诱导制造
DOI: 10.1007/s00339-013-7669-4
发表时间:
期刊: Applied Physics A
影响因子: --
作者: [P. Lorenz, F. Frost, M. Ehrhardt, K. Zimmer]
通讯作者: K. Zimmer
Laser-induced front side etching of fused silica with XeF excimer laser using thin metal layers
使用 XeF 准分子激光器使用薄金属层对熔融石英进行激光诱导正面蚀刻
DOI: 10.1016/j.apsusc.2011.10.145
发表时间: 2012
期刊: Applied Surface Science
影响因子: 6.7
作者: [P. Lorenz, M. Ehrhardt, A. Wehrmann, K. Zimmer]
通讯作者: K. Zimmer
Local confined laser-induced plasmas for direct writing of low damage patterns by precise reactive etching
Grenzflächenselektive, schädigungsarme Strukturierung von dünnen Schichten durch Rückseiten-Laserablation
Laserätzen von Festkörpern mittels adsorbierter Schichten
Laser induced backside etching of dielectrics
海外基金