Mit MOCVD-präparierte Multischichtsysteme im direkten Vergleich mit UHV-PVD-Schichten

使用 MOCVD 制备的多层系统与 UHV-PVD 层直接比较

• 批准号: 5221856
• 负责人: Professor Dr. Ulrich Heinzmann
• 金额: --
• 依托单位: Arbeitsgruppe Anorganische Chemie und Strukturchemie
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Units
• 财政年份: 1995
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 1994-12-31 至 2001-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5221856?language=en
• 关键词: Mit; MOCVD; pr; parierte; Multischichtsysteme

Die Erzeugung ultradünner Metall-Nichtmetall Multischichtsysteme mit Schichtdicken im Bereich weniger Atomlagen ist eine Herausforderung, bei der konventionelle Präparationsstrategien an ihre Grenzen stoßen. Diese Schichtsysteme besitzen große technologische Bedeutung im Bereich der Nanoelektronik, Röntgenoptik, etc. durch die Nutzung maßgeschneiderter metallorganischer Verbindungen als Precursor in Verbindung mit einem Reaktor, der mit einem in-situ Analyseverfahren zur Schichtdickencharakterisierung ausgestattet ist, ergeben sich neuartige Möglichkeiten der MOCVD-Abscheidung von Nanometer-Multischichten.An der gemeinsamen MOCVD-Apparatur des Projektes 2 im Chemielabor arbeiten Chemiker mit langjähriger Erfahrung im Bereich der Synthese metallorganischer Verbindungen mit Physikern zusammen, die ihre Erfahrungen aus der Herstellung und Analyse ultradünner PVD-Multischichten in das Projekt einbringen. Dieses Projekt stellt daher eine wichtige Nahtstelle zwischen Chemie und Physik innerhalb der Forschergruppe "Nanometerschichtsysteme" dar.Die Projektstruktur gliedert sich in 3 Unterprojekte:UP I: Precursormoleküle zur Abscheidung der Elemente Silizium, Molybdän und Wolfram, der Oxide von Siliziumsowie MolybdänsilicidUP II: Präparation von Schichten nach dem MOCVD-Verfahren und deren röntgenoptische in-situ CharakterisierungUP III: Analyse der MOCVD-Schichtsysteme mit röntgenoptischen, oberflächenphysikalischen und mikroskopischen ex-situ Verfahren und Vergleich mit entsprechenden UHV-PVDSchichten.

[1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1]disese Schichtsysteme besitzen große technische Bedeutung im Bereich der Nanoelektronik， Röntgenoptik等durch die Nutzung maßgeschneiderter metallorganischer verindungen als Precursor in ververindung mit einem Reaktor， der mit einem ininem原位Analyseverfahren zur Schichtdickencharakterisierung ausgestattet ist， ergeben sich neuartige Möglichkeiten der MOCVD-Abscheidung von nano- multischichten。An der gemeinsamen mocvd - appartuur des Projektes 2 im Chemielabor arbebeen chemker mit langjähriger Erfahrung im Bereich der Synthese metallorgancher verindungen mit Physikern zusammen, die ihre Erfahrungen aus der Herstellung and Analyse ultra adadner PVD-Multischichten in das Projekt einbringen。“纳米化学系统”项目由德国物理学与化学研究所主办，由德国物理学与化学研究所主办。Die Projektstruktur gliedert sich in 3 unterprojekkte:UP I: precursormolekle zur Abscheidung der element Silizium, Molybdän und Wolfram, der Oxide von Siliziumsowie MolybdänsilicidUP II: Präparation von Schichten nach dem MOCVD-Verfahren und deren röntgenoptische in situ CharakterisierungUP III: Analyse der MOCVD-Schichtsysteme mit röntgenoptischen, oberflächenphysikalischen und microskopischen ex-situ Verfahren und Vergleich mit entsprechenden UHV-PVDSchichten。