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電子と有機固体との衝突による表面反応の研究

电子与有机固体碰撞引起的表面反应的研究

基本信息

批准号：
01540367
负责人：
徳江郁雄
金额：
$ 1.09万
依托单位：
Niigata University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1989
资助国家：
日本
起止时间：
1989 至无数据
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-01540367/
关键词：
振動・回転分布電子衝突発光過程分子クラスタ-

项目摘要

本研究では冷却した固体表面に簡単な分子(水、アルコ-ル類)を蒸着させ、電子との衝突による励起やイオン化過程を明らかにすることを目的とし、発光観測と質量分析を用いることを計画した。しかし、現在の装置で固体表面を直接観測することは、S/Nが悪いことや残留ガスの混入のために困難と考えられた。そこで超音速分子線で分子クラスタ-を作り電子ビ-ムとの衝突による発光を観測し、ガスセルの結果と比較してクラスタ-内にとける反応過程の情報を得て、固体表面での反応を推測しようとした。(1)ヘリウムガスにシ-ドした水からのOH(A-X)バンドを観測し、包絡線解析からA状態の振動回転分布を得た。回転温度として約7000Kの値が得られ、30-300eVの範囲では一定であった。一方ガスセルの結果では8000Kであり、超音速ジェット中の方が回転温度が低いことが分かった。これはクラスタ-中で生成したOH(A)が回りの分子と衝突緩和を起こしていることによると推測される。(2)ヘリウムガスにシ-ドしたメタノ-ルからのOH(A-X)バンドとCH(A-X)バンドとを同様に解析した。OH(A)状態の回転温度はジェット中では3000±150K、ガスセルでは3550±150Kで、ジェット中の方が有意の差で低温になっている。一方CH(A)状態については両者とも3000Kで差はなかった。OHとCHとの温度の差が生成機構によるものなのか、回転緩和の速度の違いによるものなのか現在検討中である。次に装置を改造し、固体表面に蒸着した水やメタノ-ルに電子衝突させて発光を観測した。しかし発光が弱く解析は困難であり反応機構の考察は進んでいない。現在、発光強度を稼ぐために装置を改良している。

In this study, the temperature field on the solid surface of the cooling system (such as water, microwave, etc.) is activated by the heating and heating of the electronics. the purpose of this study is to determine the purpose of the cooling process, and to analyze the amount of light in the solid surface by using the thermal analysis method. On the solid surface of the existing device, the solid surface of the device is directly affected, and the residue is mixed into the solid surface of the device. A supersonic molecular device is used as an electronic device. The results of the experiment are compared with those of the internal one, and the results of the solid surface response test are satisfactory. (1) the distribution of vibration response is determined by the analysis of the packet line and the distribution of vibration response. The temperature of return temperature is about 7000K, and the temperature range of 30-300eV must be low. On one side, the temperature range is 8000K and the supersonic range is low. The OH (A) is generated in the middle. The molecules are broken and the molecules are pushed. (2) No, no, no. In the OH (A) status, the temperature is 3000 ±150K, the temperature is 3550 ±150K, and the temperature is low. There is a difference of 3000K between Ch (A) and Ch (A). The OH CH temperature difference generating machine is responsible for the temperature response, speed response, and speed response. The secondary equipment is revamped, and the solid surface is steamed with hot water and hot water. In the light of the light, the light is weak, and the counter-organization is responsible for the investigation and analysis of the situation. At present, the light intensity has been improved.