课题基金 / 基金详情

ケイ素の特性を生かした高スピン分子の合成と物性

ケイ素の特性を生かした高スピン分子の合成と物性
利用硅特性的高自旋分子的合成和物理性质
批准号:
12020208
负责人:
吉良 満夫
金额:
$1.15万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
财政年份:
2000
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2000 至 --

项目摘要

项目成果

吉良 満夫的其他基金

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
前年度、トリアルキルシリル基の電子受容性置換基としての特性を生かした新しい高スピンアニオン種を生成することを目的として、シリル置換ベンゼンをスピロ炭素で直交配置して連結した一群の化合物を合成し、そのアルカリ金属還元によって生成するアニオン種のスピン状態をESR分光法によって明らかにした。本年度は14族2価化学種のアニオンラジカルに研究を拡張し、最近合成に成功した安定ジアルキルシリレン1のDME中での、カリウム還元を行った。14族2価化学種は比較的低い準位にLUMOを持つため、1電子還元によりアニオンラジカルを生成する可能性がある。実際1のカリウム還元によって、容易にシリレンアニオンラジカルを生成した。1は低温で比較的安定であり、g値は2.0077とこれまで知られているトリアルキルシリルラジカルやトリス(トリアルキルシリル)シリルラジカルのg値よりかなり大きいことが分かった。シリレンのn-p遷移エネルギーが小さいことを反映していると思われる。また、シリレンアニオンラジカルの中心ケイ素の超微細結合定数a(Si^α)は他のシリルラジカルに比べて顕著に小さい。この値は純粋にケイ素3p軌道に不対電子が収容された場合にとる^<29>Si超微細結合定数の最小値だと考えることができる。これまでトリス(トリアルキルシリル)シリルラジカルは平面構造に近いと考えられてきたが、^<29>Si超微細結合定数はこれよりかなり大きく、完全には平面でないことが示唆される。
期刊论文(11)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
M.Takahashi: "Dimers of diaminosilvlenes-Doubly Bonded or bridged? The Dimers of (i-Pr2N)2Si"J.Am.Chem.Soc.. 123(2). 347-348 (2001)
M.Takahashi:“二氨基硅的二聚体-双键或桥接?(i-Pr2N)2Si 的二聚体”J.Am.Chem.Soc.. 123(2)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
W.Setaka: "Multiplicity of Planar Hexasilylbenzene Dianions. Effects of Substituents and Countercations"J.Am.Chem.Soc.. 122(32). 7781-7786 (2000)
W.Setaka:“平面六甲硅烷基苯二价阴离子的多重性。取代基和抗衡阳离子的影响”J.Am.Chem.Soc. 122(32)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
T.Iwamoto: "A stable bicyclic compound with two Si=Si double bonds"Science. 200. 504 (2000)
T.Iwamoto:“具有两个 Si=Si 双键的稳定双环化合物”科学。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
11
    ケイ素など高周期14族元素の新しいパイ電子系化合物の構築と機能創出
    • 批准号:
      16205007
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额:
      $22.46万
    • 财政年份:
      2004
    • 负责人:
      吉良 満夫
    • 依托单位:
    安定なケイ素、ゲルマニウム、スズ二価化合物を基盤とする異常分子の合成
    • 批准号:
      03F03068
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额:
      $0.7万
    • 财政年份:
      2003
    • 负责人:
      吉良 満夫
    • 依托单位:
    安定なケイ素・ゲルマニウム・スズ二価化合物を基盤とする異常分子の合成
    • 批准号:
      03F00068
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额:
      $0.7万
    • 财政年份:
      2003
    • 负责人:
      吉良 満夫
    • 依托单位:
    新規ケイ光センサーおよびその有機ケイ素反応中間体研究への応用
    • 批准号:
      00F00120
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额:
      $1.28万
    • 财政年份:
      2000
    • 负责人:
      吉良 満夫
    • 依托单位:
    海外基金