SOI基板上ナノ電子デバイスの研究とそのナノ・バイオ分析システムへの展開
SOI基板上ナノ電子デバイスの研究とそのナノ・バイオ分析システムへの展開
批准号:
03J53171
负责人:
中島 義賢
金额:
$1.09万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2003
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2003 至 2004
中文摘要
本研究は、ナノエレクトロニクスにおける高集積化、高速化、低消費電力化、高機能化の限界を、SOI基板上ナノ電子デバイスにより打破するための要素技術を確立し、なおかつそのナノ・バイオ分析システムへの展開の可能性を模索することである。本年度は、以下の2点に的を絞って研究を行った。(1)デバイス・システムの集積化基板として用いるSOI基板の電気的特性評価SOI基板におけるキャリアライフタイムのメカニズムについて解明すべく、基板上にボディ端子付のMOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)を作製し、ボディ電流から基板のトラップ準位のキャリア再結合寄与分を評価する方法を提案し、評価を行った。論文は2件発表済である。(2)高性能LSIへ向けたSOQ MOSFETの有用性の実験的検証これまでの研究では、SOI MOSFETを完全空乏型から完全反転型にすることにより、ゲート電界が反転層形成に効率よく利用され、その結果として短チャネル効果が有効に抑制されることを示してきたが、今回は、Silicon On Quartz (SOQ)基板を用いることによりゲート電界の効率がさらに向上できることを提案し、その有用性を検証した。SOQ基板においてはSOI基板と異なり埋込酸化膜下のイオン化不純物に終端する電気力線が無くなる分、ゲート電気力線が反転層形成に有効に使われることになる。結果として、SOQ MOSFETの電気的特性は向上し、携帯電話やノートパソコンに代表されるモバイル機器で要求される低消費電力化を実現するための手法の1つとして有用であることを実験とデバイスシミュレーションにより示した。現在論文作成中である。
英文摘要
本研究は、ナノエレクトロニクスにおける高集積化、高速化、低消費電力化、高機能化の限界を、SOI基板上ナノ電子デバイスにより打破するための要素技術を確立し、なおかつそのナノ・バイオ分析システムへの展開の可能性を模索することである。本年度は、以下の2点に的を絞って研究を行った。(1)デバイス・システムの集積化基板として用いるSOI基板の電気的特性評価SOI基板におけるキャリアライフタイムのメカニズムについて解明すべく、基板上にボディ端子付のMOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)を作製し、ボディ電流から基板のトラップ準位のキャリア再結合寄与分を評価する方法を提案し、評価を行った。論文は2件発表済である。(2)高性能LSIへ向けたSOQ MOSFETの有用性の実験的検証これまでの研究では、SOI MOSFETを完全空乏型から完全反転型にすることにより、ゲート電界が反転層形成に効率よく利用され、その結果として短チャネル効果が有効に抑制されることを示してきたが、今回は、Silicon On Quartz (SOQ)基板を用いることによりゲート電界の効率がさらに向上できることを提案し、その有用性を検証した。SOQ基板においてはSOI基板と異なり埋込酸化膜下のイオン化不純物に終端する電気力線が無くなる分、ゲート電気力線が反転層形成に有効に使われることになる。結果として、SOQ MOSFETの電気的特性は向上し、携帯電話やノートパソコンに代表されるモバイル機器で要求される低消費電力化を実現するための手法の1つとして有用であることを実験とデバイスシミュレーションにより示した。現在論文作成中である。
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A new measurement technique for the characterization of carrier lifetime in thin SOI MOSFETs
用于表征薄 SOI MOSFET 载流子寿命的新测量技术
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
Thin Solid Films 462-463
影响因子:
--
作者:
[Y.Nakajima, Y.Nakajima]
通讯作者:
Y.Nakajima
T.Hanajiri, K.Aoto, T.Hoshino, M.Niizato, Y.Nakajima, T.Toyabe, T.Morikawa, T.Sugano, Y.Akagi: "A new approach for quantum mechanical modeling and simulation for MOS devices, covering the whole operation region"Computational Materials Science. (In press).
T.Hanajiri、K.Aoto、T.Hoshino、M.Niizato、Y.Nakajima、T.Toyabe、T.Morikawa、T.Sugano、Y.Akagi:“MOS 器件量子力学建模和仿真的新方法,
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
An approach for quantum mechanical modeling and simulation for MOS devices. covering the whole operation region
MOS 器件的量子力学建模和仿真方法。
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
Computational Materials Science 30
影响因子:
--
作者:
[Y.Nakajima, Y.Nakajima, T.Hanajiri]
通讯作者:
T.Hanajiri
Confirmation of electric properties of traps at silicon-on-insulator (SOI)/buried oxide (BOX) interface by three-dimensional-device simulation
通过三维器件模拟确认绝缘体上硅 (SOI)/埋氧层 (BOX) 界面陷阱的电特性
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
Physica E 24
影响因子:
--
作者:
[Y.Nakajima]
通讯作者:
Y.Nakajima
Scaling rules for SOI MOSFETs operating in the fully inverted mode
在完全反转模式下工作的 SOI MOSFET 的缩放规则
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
Solid-State Electronics 48
影响因子:
--
作者:
[Y.Nakajima, Y.Nakajima, T.Hanajiri, T.Hanajiri]
通讯作者:
T.Hanajiri
共 6 条
細胞分析デバイスよる細胞外シグナルの計測およびその細胞の未来予測
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批准号:21K04194
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.58万
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财政年份:2021
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负责人:中島 義賢
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依托单位:
海外基金