抗腫瘍性抗生物質アポトリジンの合成及び化学生物学的研究
抗腫瘍性抗生物質アポトリジンの合成及び化学生物学的研究
批准号:
04F04115
负责人:
戸嶋 一敦
金额:
$1.54万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2004
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2004 至 2005
中文摘要
アポトリジン(1)は、新規20員環マクロリド抗生物質であり、アデノウイルス癌遺伝子形質転換細胞に対してのみ特異的にアポトーシスを誘導する新物質である。さらに、米国国立ガン研究所(NCI)によるスクリーニングの結果において、1は、37000の抗生物質の中で、上位0.1%に入る癌細胞に対する特異性を持っていることが報告されている。また、構造的特徴としては、ジエン、トリエン構造を含む20員環マクロラクトン部分、6員環ヘミアセタール構造を含む側鎖部分、および3つの糖が配糖化された複雑な高次構造を有している。本年度の研究において、この複雑かつ有用なアポトリジン(1)の独自の新しい経路による全合成を検討した。その結果、アポトリジンのC17-C28に相当する鍵合成中間体の合成研究において、有機合成化学で広く用いられている保護基であるベンジル基の新たな脱保護法を見出した。ベンジル基は、通常、水素添加により脱保護されることが知られている。しかし、本研究において、ベンジル基が、アセトニトリル中、2,3-dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone (DDQ)の存在下、365nmの光を照射することで、速やかに脱保護され、対応するアルコールを高収率で与えることを見出した。さらに、本脱保護法において、上記の3つの要素、アセトニトリル、DDQおよび光照射が必要不可欠な要素であることが確認された。また、p-メトキシベンジル基も同様に、脱保護されることを見出すと同時に、ベンジル基とp-メトキシベンジル基の両方を有する基質において、DDQのみでは、p-メトキシベンジル基が選択的に脱保護され、光を照射すると、両方の保護基が脱保護される基質選択的な脱保護法を開発した。本脱保護法は、アポトリジンの合成研究のみならず、多くの合成研究に広く用いられることが期待される新手法である。
英文摘要
アポトリジン(1)は、新規20員環マクロリド抗生物質であり、アデノウイルス癌遺伝子形質転換細胞に対してのみ特異的にアポトーシスを誘導する新物質である。さらに、米国国立ガン研究所(NCI)によるスクリーニングの結果において、1は、37000の抗生物質の中で、上位0.1%に入る癌細胞に対する特異性を持っていることが報告されている。また、構造的特徴としては、ジエン、トリエン構造を含む20員環マクロラクトン部分、6員環ヘミアセタール構造を含む側鎖部分、および3つの糖が配糖化された複雑な高次構造を有している。本年度の研究において、この複雑かつ有用なアポトリジン(1)の独自の新しい経路による全合成を検討した。その結果、アポトリジンのC17-C28に相当する鍵合成中間体の合成研究において、有機合成化学で広く用いられている保護基であるベンジル基の新たな脱保護法を見出した。ベンジル基は、通常、水素添加により脱保護されることが知られている。しかし、本研究において、ベンジル基が、アセトニトリル中、2,3-dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone (DDQ)の存在下、365nmの光を照射することで、速やかに脱保護され、対応するアルコールを高収率で与えることを見出した。さらに、本脱保護法において、上記の3つの要素、アセトニトリル、DDQおよび光照射が必要不可欠な要素であることが確認された。また、p-メトキシベンジル基も同様に、脱保護されることを見出すと同時に、ベンジル基とp-メトキシベンジル基の両方を有する基質において、DDQのみでは、p-メトキシベンジル基が選択的に脱保護され、光を照射すると、両方の保護基が脱保護される基質選択的な脱保護法を開発した。本脱保護法は、アポトリジンの合成研究のみならず、多くの合成研究に広く用いられることが期待される新手法である。
期刊论文(2)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Synthetic studies on apoptolidin : synthesis of the C12-C28 fragment via highly stereoselective aldol reaction
凋亡素的合成研究:通过高度立体选择性羟醛反应合成 C12-C28 片段
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
Tetrahedron Letters 45・48
影响因子:
--
作者:
[I.W.Hwang, T.K.Ahn, D.M.Ko, D.-Kim, T.Kamada, T.Nakamura, A.Tsuda, A.Osuka, M.A.Rahim, K.Abe]
通讯作者:
K.Abe
天然物を基本骨格とする刺激応答型光感受性分子の創製と次世代型光線力学療法への応用
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批准号:23K23479
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$5.32万
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财政年份:2024
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负责人:戸嶋 一敦
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依托单位:
天然物を基本骨格とする刺激応答型光感受性分子の創製と次世代型光線力学療法への応用
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批准号:22H02212
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$10.98万
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财政年份:2022
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负责人:戸嶋 一敦
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依托单位:
糖を有する生体機能分子のための新合成方法論と実践的合成法の開発
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批准号:18032068
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$3.78万
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财政年份:2006
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负责人:戸嶋 一敦
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依托单位:
人工設計分子とDNAの超分子形成に基いた遺伝子機能制御
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批准号:10780357
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.41万
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财政年份:1998
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负责人:戸嶋 一敦
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依托单位:
エンジイン系人工DNA制限酵素の分子設計と機能発現制御技術の開発
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批准号:08219236
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1996
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负责人:戸嶋 一敦
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依托单位:
糖の立体配座を利用した高立体選択的グリコシル化反応の開発
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批准号:04855172
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1992
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负责人:戸嶋 一敦
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依托单位:
不安定な天然物の合成を指向した新規保護基の開発と応用
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批准号:02855216
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1990
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负责人:戸嶋 一敦
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依托单位:
海外基金