Acid Proliferation to Improve the Sensitivity of EUV Resists

酸扩散可提高 EUV 光刻胶的灵敏度

• 批准号: 23760698
• 负责人: ENOMOTO Kazuyuki
• 金额: $ 2.41万
• 依托单位: Osaka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2011 至 2012
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23760698/
• 关键词: 微細加工; レジスト; 極端紫外光; 酸増殖反応; パルスラジオリシス; 極端紫外光（EUV）

Rate constants for the reaction of the electrons with triphenylsulfoniumtriflate (TPS-Tf) and pinanediol monosulfonates, which consist of tosylate (PiTs) or 4-trifluoromethylbenzenesulfonate (Pi3F), have been measured using pulse radiolysis in liquid tetrahydrofuran to evaluate the kinetic contribution to acid production for extreme ultraviolet (EUV) chemically amplified resists. The long-lived Pi3F・-radical anion efficiently undergoes the electron transfer to TPS-Tf with the rate constant of 6.3 × 10^10M^<-1>s^<-1> to form TPS-Tf・-, which subsequently decomposes to generate TfOH. The novel acid production pathway via the electron transfer from pinanediol monosulfonate radical anions to TPS-Tf is presented.

用脉冲辐解法在四氢呋喃液体中测定了电子与三苯基磺酸盐(TPS-TF)和由对甲苯磺酸盐(PITS)或4-三氟甲基苯磺酸(Pi3F)组成的Pinandiol单磺酸盐的反应速率常数，以评价极紫外光(EUV)化学放大抗蚀剂的产酸动力学贡献。长寿命的Pi3F·-阴离子有效地将电子转移到TPS-Tf，其速率常数为6.3×10^10m^&lt；-1&gt；S^&lt；-1&gt；生成Tps-Tf·-，再分解生成TfOH。提出了一种新的产酸途径，该途径是通过电子转移途径从单磺酸衍生物阴离子转移到TPS-Tf上。

项目成果

EUVレジスト用ピナンジオール型酸増殖剤のパルスラジオリシス

用于 EUV 抗蚀剂的蒎二醇型酸放大器的脉冲辐射分解

• 发表时间: 2011
• 作者: 榎本 一之;有光 晃二;吉澤 篤太郎;山本 洋揮;大島 明博;古澤 孝弘;田川 精一
• 通讯作者: 田川 精一

Study on Decomposition Mechanisms of High-Sensitivity Chlorinated Resist ZEP520A

高感度氯化光刻胶ZEP520A分解机理研究

• 发表时间: 2012
• 期刊: Applied Physics Express
• 影响因子: 2.3
• 作者: Tomoko Gowa Oyama;Kazuyuki Enomoto;Yuji Hosaka;Akihiro Oshima;Masakazu Washio;and Seiichi Tagawa
• 通讯作者: and Seiichi Tagawa

EUV レジスト用酸増殖剤のパルスラジオリシス

EUV抗蚀剂酸倍增剂的脉冲辐射分解

• 发表时间: 2011
• 作者: 榎本 一之;有光 晃二;吉澤 篤太郎;山本洋揮;大島 明博;古澤 孝弘;田川 精一
• 通讯作者: 田川 精一

Electron-Beam-Induced Decomposition Mechanisms of High-Sensitivity Chlorinated Resist ZEP520A

高灵敏度氯化光刻胶ZEP520A的电子束诱导分解机制

• DOI: 10.1143/apex.5.036501
• 发表时间: 2012
• 期刊: Applied Physics Express
• 影响因子: 2.3
• 作者: Tomoko Gowa Oyama;et al
• 通讯作者: et al

Acid Generation Mechanism for Extreme Ultraviolet Resists Containing Pinanediol Monosulfonate Acid Amplifiers: A Pulse Radiolysis Study

含有蒎二醇单磺酸酸放大器的极紫外光刻胶的产酸机制：脉冲辐射分解研究

• DOI: 10.1143/jjap.51.046502
• 发表时间: 2012
• 期刊: Japanese Journal of Applied Physics
• 影响因子: 1.5
• 作者: K. Enomoto;K. Arimitsu;A. Yoshizawa;R. Joshi;H. Yamamoto;A. Oshima;T. Kozawa;S. Tagawa
• 通讯作者: S. Tagawa