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Acid Proliferation to Improve the Sensitivity of EUV Resists

Acid Proliferation to Improve the Sensitivity of EUV Resists
酸扩散可提高 EUV 光刻胶的灵敏度
批准号:
23760698
负责人:
ENOMOTO Kazuyuki
金额:
$2.41万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2011
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2011 至 2012

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项目成果

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Rate constants for the reaction of the electrons with triphenylsulfoniumtriflate (TPS-Tf) and pinanediol monosulfonates, which consist of tosylate (PiTs) or 4-trifluoromethylbenzenesulfonate (Pi3F), have been measured using pulse radiolysis in liquid tetrahydrofuran to evaluate the kinetic contribution to acid production for extreme ultraviolet (EUV) chemically amplified resists. The long-lived Pi3F・-radical anion efficiently undergoes the electron transfer to TPS-Tf with the rate constant of 6.3 × 10^10M^<-1>s^<-1> to form TPS-Tf・-, which subsequently decomposes to generate TfOH. The novel acid production pathway via the electron transfer from pinanediol monosulfonate radical anions to TPS-Tf is presented.
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会议论文
EUVレジスト用ピナンジオール型酸増殖剤のパルスラジオリシス
用于 EUV 抗蚀剂的蒎二醇型酸放大器的脉冲辐射分解
DOI: --
发表时间: 2011
期刊:
影响因子: --
作者: [榎本 一之, 有光 晃二, 吉澤 篤太郎, 山本 洋揮, 大島 明博, 古澤 孝弘, 田川 精一]
通讯作者: 田川 精一
DOI: --
发表时间: 2012
期刊: Applied Physics Express
影响因子: 2.3
作者: [Tomoko Gowa Oyama, Kazuyuki Enomoto, Yuji Hosaka, Akihiro Oshima, Masakazu Washio, and Seiichi Tagawa]
通讯作者: and Seiichi Tagawa
EUV レジスト用酸増殖剤のパルスラジオリシス
EUV抗蚀剂酸倍增剂的脉冲辐射分解
DOI: --
发表时间: 2011
期刊:
影响因子: --
作者: [榎本 一之, 有光 晃二, 吉澤 篤太郎, 山本洋揮, 大島 明博, 古澤 孝弘, 田川 精一]
通讯作者: 田川 精一
Electron-Beam-Induced Decomposition Mechanisms of High-Sensitivity Chlorinated Resist ZEP520A
高灵敏度氯化光刻胶ZEP520A的电子束诱导分解机制
DOI: 10.1143/apex.5.036501
发表时间: 2012
期刊: Applied Physics Express
影响因子: 2.3
作者: [Tomoko Gowa Oyama, et al]
通讯作者: et al
Synthesis of Conducting Graft Polymers with a Hydrogen-Bond Network and Applications to Anhydrous Fuel Cell Membranes
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