development of control technique for behavior of ionic liquid molecules at graphene/SiC surface and interface
石墨烯/SiC表面和界面离子液体分子行为控制技术的发展
基本信息
- 批准号:16K04939
- 负责人:
- 金额:$ 3.08万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
SiC(3×3)表面における酸素とCs吸着に関する研究
SiC(3×3)表面氧和Cs吸附研究
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:田中晶貴,飯田涼,平山楓,Visikovskiy Anton,田中悟,内藤正路,碇智徳
- 通讯作者:田中晶貴,飯田涼,平山楓,Visikovskiy Anton,田中悟,内藤正路,碇智徳
Initial oxidation process of the alkali metals adsorbed 4H-SiC surface studied by metastable atom induced electron spectroscopy
亚稳态原子诱导电子能谱研究4H-SiC表面吸附碱金属的初始氧化过程
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:R. Iida;M. Tanaka;K. Hirayama;K. Muraoka;S. Kuroki;S. Tanaka;M. Naitoh;T. Ikari
- 通讯作者:T. Ikari
MIESによる異種原子吸着したSiC再構成表面上の電子状態観測
使用 MIES 观察吸附不同原子的重构 SiC 表面的电子态
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:高橋大;鈴木皓己;玄光龍;小林聡;太子敏則;碇智徳
- 通讯作者:碇智徳
準安定原子誘起電子分光法によるO/Cs/SiC(3×3)表面の電子状態測定
亚稳态原子诱导电子能谱测量O/Cs/SiC(3×3)表面电子态
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:鈴木皓己;太子敏則;田中晶貴,飯田涼,柏谷拓実,渡邉拓斗,平山楓,田中悟,内藤正路,碇智徳
- 通讯作者:田中晶貴,飯田涼,柏谷拓実,渡邉拓斗,平山楓,田中悟,内藤正路,碇智徳
MIESによる酸素吸着したCs/6H-SiC(0001)表面の電子状態観測
MIES观察氧吸附Cs/6H-SiC(0001)表面电子态
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:田中晶貴,飯田涼,平山楓,Visikovskiy Anton,田中悟,内藤正路,碇智徳;中村拓人,平山楓,村岡幸輔,石井純子,黒木伸一郎,田中悟,内藤正路,碇智徳
- 通讯作者:中村拓人,平山楓,村岡幸輔,石井純子,黒木伸一郎,田中悟,内藤正路,碇智徳
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
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