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Development of equipment for multi-purpose materials processing by ions produced in high-density pulsed discharge plasmas
开发利用高密度脉冲放电等离子体产生的离子进行多用途材料加工的设备
基本信息
- 批准号：26420230
- 负责人：
- 金额：$ 3.16万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2014
- 资助国家：日本
- 起止时间：2014-04-01 至 2017-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Preparation of hydrogenated diamond-like carbon films using high-density pulsed plasmas of Ar/C2H2 and Ne/C2H2 mixture
- DOI：10.7567/jjap.55.07le02
- 发表时间：2016-06
- 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：T. Kimura;H. Kamata
- 通讯作者：T. Kimura;H. Kamata
Properties of diamond-like carbon films prepared by high power pulsed sputtering with two facing targets
- DOI：10.1016/j.surfcoat.2016.07.030
- 发表时间：2016-12
- 期刊：
- 影响因子：5.4
- 作者：T. Kimura;T. Mishima;K. Azuma;S. Nakao
- 通讯作者：T. Kimura;T. Mishima;K. Azuma;S. Nakao
Preparation of hydrogenated diamond-like carbon films by reactive Ar/CH4 high power impulse magnetron sputtering with negative pulse voltage
负脉冲电压反应Ar/CH4高功率脉冲磁控溅射制备氢化类金刚石碳薄膜
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：鎌田 光速;木村 高志;中尾 節男;東 欣吾;原田 敏和，七森 公碩，梅上 大勝，山本 真義;Takashi Kimura,Hikaru Kamata
- 通讯作者：Takashi Kimura,Hikaru Kamata
ホロ－形状ターゲットを持つ高電力パルススパッタの電気特性
空心靶高功率脉冲溅射电学特性
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Hiroki Ishibashi;Akihiro Nishigaki;Hirokatsu Umegami;Wilmar Martinez and Masayoshi Yamamoto;吉田 尭，石橋 寛基，山本 真義;木村高志,三島俊彦
- 通讯作者：木村高志,三島俊彦
Properties of amorphous carbon films prepared by high power pulsed sputtering with two facing targets
两靶高功率脉冲溅射制备非晶碳薄膜的性能
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Takashi Kimura;Toshihiko Mishima;Kingo Azuma;Setsuo Nakao
- 通讯作者：Setsuo Nakao
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Preparation of functional hard coating materials by high density pulsed plasma ion implantation
高密度脉冲等离子体离子注入制备功能性硬涂层材料
- 批准号：
17K06298 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Innovative multiple-bit information writing using local pure spin current injection
使用局部纯自旋电流注入创新的多位信息写入
- 批准号：
23651150 - 财政年份：2011
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
Development of hard deformable focusing mirror for general-purpose hard X-ray optics.
通用硬X射线光学器件硬变形聚焦镜的开发。
- 批准号：
23860001 - 财政年份：2011
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
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利用纯自旋流开发高效磁制冷技术
- 批准号：
22246003 - 财政年份：2010
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
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Functional analysis of equine herpesvirus-1 receptor and its application for infection prevention
马疱疹病毒1受体功能分析及其在感染预防中的应用
- 批准号：
20380165 - 财政年份：2008
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Development of plasma process equipment with pulsed plasma ablation technique
采用脉冲等离子体烧蚀技术的等离子体加工设备的开发
- 批准号：
20560267 - 财政年份：2008
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Development of multi-terminal spin logic devices using lateral spin injection devices
利用横向自旋注入器件开发多端自旋逻辑器件
- 批准号：
19686002 - 财政年份：2007
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
Superfluid States and Mott Transitions of Neutral Atom Systems
中性原子系统的超流态和莫特跃迁
- 批准号：
18740251 - 财政年份：2006
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
Analysis of West Nile virus neuroinvasion using in vitro blood-brain barrier models
利用体外血脑屏障模型分析西尼罗河病毒神经侵袭
- 批准号：
18580302 - 财政年份：2006
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Study on high frequency discharge containing oxygen at atmospheric pressure
常压含氧高频放电研究
- 批准号：
16560242 - 财政年份：2004
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
相似海外基金
Preparation of functional hard coating films with multilayer structure via pulsed sputtering plasma with high-density
高密度脉冲溅射等离子体制备多层结构功能性硬质涂层薄膜
- 批准号：
20K04442 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Clarification of Reaction Conditions between Pulsed Electric Discharge and Green Propellant in Rockets
火箭中脉冲放电与绿色推进剂反应条件的澄清
- 批准号：
20K04919 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Understanding the growth mechanism of boron carbon nitride films based on the ion transportation behavior in HiPIMS deischarge
基于 HiPIMS 放电中离子传输行为了解硼碳氮化物薄膜的生长机制
- 批准号：
17KK0136 - 财政年份：2018
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Fund for the Promotion of Joint International Research (Fostering Joint International Research)
Development of electron temperature control technique for atmospheric pressure microwave plasma to promote radical production
开发常压微波等离子体电子温度控制技术以促进自由基产生
- 批准号：
18K13531 - 财政年份：2018
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
Preparation of functional hard coating materials by high density pulsed plasma ion implantation
高密度脉冲等离子体离子注入制备功能性硬涂层材料
- 批准号：
17K06298 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Research on Reaction Promotion of Green Propellant by Pulsed Electric Discharge for Space Propulsion
空间推进脉冲放电绿色推进剂反应促进研究
- 批准号：
17K14875 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
Development of advanced air purification system by coupling ionic liquid electrospray with reactive plasma
离子液体电喷雾与反应等离子体耦合开发先进空气净化系统
- 批准号：
16H04262 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
イオン支援パルスプラズマ活用単層カーボンナノチューブの完全カイラリティ制御合成
使用离子辅助脉冲等离子体完成手性控制的单壁碳纳米管合成
- 批准号：
15J01481 - 财政年份：2015
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Novel Acceleration Mechanisms and Plasma Propulsion Applications through Interactions of Ultra-short-pulse Discharges and Matters
通过超短脉冲放电和物质相互作用的新型加速机制和等离子体推进应用
- 批准号：
15H04203 - 财政年份：2015
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Investigations of plasma with multi-phase matters produced by high heat flux pulsed plasmas and its heat mitigation effects
高热通量脉冲等离子体产生多相物质等离子体及其散热效应的研究
- 批准号：
26400535 - 财政年份：2014
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)